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J-GLOBAL ID：200902271723168010   整理番号：05A1021594

単結晶シリコン表面のレーザパターニング

Study on Laser Patterning on Single Crystalline Silicon

著者 (2件)： 細野高史 (東京工大 大学院) ,  戸倉和 (東京工大 大学院)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 71  号： 6  ページ： 729-733  発行年： 2005年06月05日 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アルゴンイオンレーザをシリコンウエハに照射する表面加工を試み...

シソーラス用語： アルゴン ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (6件)：

• 三宅正二郎. 原子間力顕微鏡 (AFM) によるシリコンのマイクロ隆起加工. 精密工学会誌. 1999, 65, 12, 1788
• 陳利益. 摩擦力顕微鏡機構による極微細加工とアルカリエッチングを併用した単結晶シリコンへのマスクレスパターン形成. 精密工学会誌. 2000, 66, 11, 1807
• OLSEN, J. E. Infrared spectroscopy of thin silicon dioxide on silicon. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 20, 1934
• WOLF, I. D. Micro-Raman spectroscopy to study local mechanical stress in silicon integrated circuits. Semicond. Sci. Technol. 1996, 11, 2, 139
• DAGATA, J. A. Modification of hydrogen-passivated silicon by a scanning tunneling microscope operating in air. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 20, 2001

タイトルに関連する用語 (2件)： 単結晶シリコン ,  レーザパターニング