文献

J-GLOBAL ID：200902274699177681   整理番号：04A0543852

通常の接触アライナを用いたインプリント/フォトハイブリッドリソグラフィー

Imprint/Photo Hybrid Lithography Using Conventional Contact Aligner

著者 (3件)： KAWATA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  HIRAI Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  KIKUTA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43  号： 6B  ページ： 4027-4030  発行年： 2004年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 通常の接触型アライナを用いたインプリントリソグラフィーとフォ...

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： アライナ ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=04A0543852&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (6件)：

• 1) S. Y. Chou, P. R. Krauss and R. J. Renstorm: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 3114.
• 2) Y. Hirai, S. Yoshida, N. Takagi, Y. Tanaka, H. Yabe, K. Sasaki, H. Sumitani and K. Yamamoto: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 3863.
• 3) X. Cheng and L. J. Guo: Abstr. 48th Int. Conf. Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication, (Tampa, Florida, 2003) p. 441.
• 4) H. Hiroshima, S. Inoue, N. Kasahara and J. Taniguchi: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4173.
• 5) Y. Hirai, S. Yoshida, A. Okamoto, Y. Tanaka, M. Endo, S. Irie, H. Nakagawa and M. Sasago: J. Photopolym. Sci. Technol. 14 (2001) 457.

タイトルに関連する用語 (1件)： アライナ