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J-GLOBAL ID:200902299577372281   整理番号:06A0417905

極低酸素圧雰囲気下のCu酸化膜の脱酸素

Deoxidization of Cu Oxide under Extremely Low Oxygen Pressure Ambient
著者 (7件):
資料名:
巻: 45  号: 12-16  ページ: L393-L395  発行年: 2006年04月25日 
JST資料番号: F0599B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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極低酸素分圧雰囲気でCu酸化膜の脱酸素を行った。新しく開発し...
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分類 (2件):
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半導体集積回路  ,  固体デバイス製造技術一般 
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