特許

J-GLOBAL ID：200903000106288025

フォトレジストフィルム、感光性樹脂組成物層およびレジストパターンの形成方法

発明者： 佐藤 弘章 ,  辻本 篤志
出願人/特許権者： 日本合成化学工業株式会社
代理人 (1件)： 米田 圭啓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-322651
公開番号（公開出願番号）：特開2009-145613
出願日： 2007年12月13日
公開日（公表日）： 2009年07月02日
要約：

【課題】 解像度に優れ、高精細なレジストパターンを形成すること。【解決手段】 本発明のフォトレジストフィルムは、所望のパターンを露光した後に、現像液とガスとからなる混合流体を吹き付けて現像することにより、基板上にレジストパターンを形成する方法に用いられる、少なくとも感光性樹脂組成物層を有するフォトレジストフィルムであって、該感光性樹脂組成物層は、カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)を含有する感光性樹脂組成物からなり、かつ、該感光性樹脂組成物層の波長365nm及び/又は405nmでの光線透過率が25%以上であることを特徴とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

所望のパターンを露光した後に、現像液とガスとからなる混合流体を吹き付けて現像することにより、基板上にレジストパターンを形成する方法に用いられる、少なくとも感光性樹脂組成物層を有するフォトレジストフィルムであって、 該感光性樹脂組成物層が、カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)を含有する感光性樹脂組成物からなり、かつ、該感光性樹脂組成物層の波長365nm及び/又は405nmでの光線透過率が25%以上であることを特徴とするフォトレジストフィルム。

IPC (6件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/26 ,  H05K 3/00

FI (6件)：

G03F7/004 512 ,  G03F7/30 ,  G03F7/033 ,  G03F7/031 ,  G03F7/26 501 ,  H05K3/00 F

Fターム (20件)：

2H025AA04 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA28 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB43 ,  2H025DA01 ,  2H025FA17 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096GA23

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 現像処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-227490   出願人：株式会社ニューフレアテクノロジー
• サンドブラスト加工法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-044007   出願人：大日本印刷株式会社

審査官引用 (4件)

• フォトレジストフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-104362   出願人：ニチゴー・モートン株式会社
• 感光性樹脂組成物及び積層体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-271630   出願人：旭化成エレクトロニクス株式会社
• ブラスト加工用マスキングパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-332307   出願人：新東ブレーター株式会社
• プリント配線板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-205079   出願人：旭化成工業株式会社