投影露光装置およびデバイス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阪本善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-255071
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077012
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】基板チャッキング時に起因する基板表面の変形等によって生じる基板面方向歪みによるアライメントマークや露光ショットの非線形シフトを正確に算出して高精度の位置補正を行ない、オーバーレイ精度の向上を図る。【解決手段】ウエハ6に形成されたアライメントマークを検出するアライメント検出器9にマーク近傍面とその傾きを測定するAMフォーカス検出系を備えるとともに、アライメントマーク露光形成時のマーク近傍面の傾きの履歴値を保持する記憶手段を備え、アライメント検出器9による計測結果に基づく全露光ショットの位置推定に先立って、AMフォーカス検出系26により計測された傾きと記憶手段に保持されている傾きの履歴値との差分からアライメント位置の計測値を補正し、ウエハ表面の変形等によるウエハ面分布応力によって発生する非線形シフトを正確に算出し、非線形シフトの位置補正の後に露光を行なう。

請求項（抜粋）：

基板被露光面の複数の露光ショットに原版パターンを投影光学系を介して投影する投影露光装置において、前記複数の露光ショットの一部のサンプルショットに形成されたアライメントマーク位置を検出するアライメント検出器と、該アライメント検出器の検出結果に基づいて全露光ショットの位置を推定して前記露光ショットを前記投影光学系の露光画角に位置決めするアライメント手段と、前記アライメントマーク近傍面と前記基板の被露光基準面の傾斜差分値を測定する手段と、前記アライメントマーク露光形成時のアライメントマーク近傍面と前記被露光基準面の傾斜差分の履歴値を保持する記憶手段と、前記全露光ショットの位置推定に先立って前記傾斜差分値と前記傾斜差分の履歴値との差分から前記アライメント位置の計測値を補正する手段を具備することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/22 , G03F 9/02 , H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/30 525 W , G03F 7/22 H , G03F 9/02 H , H01L 21/68 F

Fターム (25件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031JA04 , 5F031JA38 , 5F031JA50 , 5F031MA27 , 5F031PA09 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC03 , 5F046CC05 , 5F046CC06 , 5F046CC16 , 5F046DA05 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F046DC10 , 5F046DD06 , 5F046ED02 , 5F046FA10 , 5F046FA17 , 5F046FC04 , 5F046FC05

引用特許：

審査官引用 (8件)

露光方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-322131 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-226868 出願人：株式会社ニコン
特開平1-161832

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