特許
J-GLOBAL ID：200903000198334923
CVD原料用気化装置およびこれを用いたCVD装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-081499
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273639
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】 未気化残渣の生成を抑制するCVD原料用気化装置を得る。【解決手段】 加熱壁面を有する気化器内8に噴霧ノズル7からCVD原料を噴霧し気化する。噴霧ノズル7は、冷却装置19で冷却された冷却液体により金属ブロック18を冷却することにより冷却され、噴霧ノズル7と気化器8は、熱伝導抑制手段21を介して溶着されている。
請求項（抜粋）：
導入されたCVD原料を加熱して気化する気化器、この気化器に端部が固着され、上記気化器内に上記CVD原料を噴霧する噴霧ノズル、この噴霧ノズルを冷却する冷却機構、並びに上記固着部または上記噴霧ノズルもしくは気化器の上記固着部近傍に設けた熱伝導抑制手段を備えたCVD原料用気化装置。
IPC (3件)：
C23C 16/448
, B01J 7/02
, H01L 21/31
C23C 16/44 C
, B01J 7/02 Z
, H01L 21/31 F
4G068AB02
, 4G068AB15
, 4G068AC05
, 4G068AD17
, 4G068AD20
, 4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030AA18
, 4K030BA17
, 4K030BA18
, 4K030BA22
, 4K030BA42
, 4K030BA46
, 4K030EA01
, 4K030EA05
, 4K030FA10
, 4K030KA26
, 4K030KA47
, 4K030KA49
, 4K030LA15
, 5F045AB31
, 5F045BB08
, 5F045BB10
, 5F045BB15
, 5F045EB02
, 5F045EB03
, 5F045EE02
, 5F045EF01
, 5F045EF11
, 5F045EJ01
, 5F045EJ08
, 5F045EJ09
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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