特許

J-GLOBAL ID：200903000533103613

高分子化合物及びその製造方法、並びにレジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 渡辺 武 ,  金生 剛 ,  小林 知洋 ,  須永 忠弘 ,  大川 祐一 ,  井尾 博文
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  三井化学株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-080605
公開番号（公開出願番号）：特開2009-235176
出願日： 2008年03月26日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：

【課題】レジスト材料用のベースポリマーとして用いられるのに必要な諸特性をすべて満足し、種々の性質を容易に調整可能な新規な材料、及びその製造方法を提供する。【解決手段】一般式[1]で表される酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する高分子化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式[1]で表される酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する高分子化合物。

IPC (3件)：

C08G 61/08 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C08G61/08 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (22件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J032CA34 ,  4J032CA68 ,  4J032CB04 ,  4J032CB05 ,  4J032CB12 ,  4J032CC03 ,  4J032CF03

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-39665号公報
  
• 感光性樹脂組成物、感光液組成物及び感光性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-177715   出願人：三井東圧化学株式会社
• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-113351   出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (5件)

• 新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-124005   出願人：信越化学工業株式会社
• 開環メタセシス重合体水素添加物、それを含有するレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-272193   出願人：信越化学工業株式会社, 三井化学株式会社
• 開環メタセシス共重合体水素添加物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-340020   出願人：三井化学株式会社
• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-113351   出願人：信越化学工業株式会社
• 開環メタセシス共重合体水素添加物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-114075   出願人：三井化学株式会社