特許

J-GLOBAL ID：200903000768366735

シリカ多孔質体、光学用途積層体及び組成物、並びに、シリカ多孔質体の製造方法

発明者： 船山 勝矢 ,  大泉 淳一 ,  山川 朋子 ,  竹内 久雄
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-063806
公開番号（公開出願番号）：特開2009-073722
出願日： 2008年03月13日
公開日（公表日）： 2009年04月09日
要約：

【課題】屈折率が低く、水に対して安定なシリカ多孔質体を提供する。【解決手段】シリカ多孔質体を、屈折率を1.3以下にし、水に浸漬する前と、水に24時間浸漬した後との波長550nmでの屈折率差が0.15以下とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記(1)及び(2)を満たすことを特徴とするシリカ多孔質体。 (1)屈折率が1.3以下である。 (2)水に浸漬する前と、水に24時間浸漬した後との波長550nmでの屈折率差が0.15以下である。

IPC (4件)：

C01B 33/12 ,  B32B 9/00 ,  B32B 5/18 ,  H01L 31/04

FI (4件)：

C01B33/12 C ,  B32B9/00 A ,  B32B5/18 ,  H01L31/04 F

Fターム (34件)：

4F100AA20B ,  4F100AK54B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100DD07B ,  4F100DJ01B ,  4F100GB41 ,  4F100JB07 ,  4F100JN06B ,  4F100JN18B ,  4F100YY00B ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072FF01 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK01 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072MM01 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072PP17 ,  4G072RR01 ,  4G072RR12 ,  4G072TT30 ,  4G072UU02 ,  5F051BA18 ,  5F051HA03 ,  5F051HA07

引用特許：

出願人引用 (6件)

• 透明導電性基板、発光素子、平面発光板、平面発光板の製造方法、平面蛍光ランプ、プラズマディスプレイ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-072988   出願人：松下電工株式会社, 筒井哲夫
• セラミックフィルムの形成方法及びセラミックフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-372712   出願人：エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド
• シリカ系被膜、シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の製造方法及び電子部品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-257113   出願人：日立化成工業株式会社
• 絶縁薄膜用の多孔性シリカ薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-336888   出願人：旭化成株式会社
• 多孔質シリカ膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-032189   出願人：株式会社アルバック
• 電子デバイスおよび組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-528723   出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ

審査官引用 (1件)

• 多孔性シリカ膜、それを有する積層体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-185551   出願人：三菱化学株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Application of Low Refractive Materials for Optical Windows of Displays