特許
J-GLOBAL ID:200903000768366735

シリカ多孔質体、光学用途積層体及び組成物、並びに、シリカ多孔質体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 真田 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-063806
公開番号(公開出願番号):特開2009-073722
出願日: 2008年03月13日
公開日(公表日): 2009年04月09日
要約:
【課題】屈折率が低く、水に対して安定なシリカ多孔質体を提供する。【解決手段】シリカ多孔質体を、屈折率を1.3以下にし、水に浸漬する前と、水に24時間浸漬した後との波長550nmでの屈折率差が0.15以下とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記(1)及び(2)を満たすことを特徴とするシリカ多孔質体。 (1)屈折率が1.3以下である。 (2)水に浸漬する前と、水に24時間浸漬した後との波長550nmでの屈折率差が0.15以下である。
IPC (4件):
C01B 33/12 ,  B32B 9/00 ,  B32B 5/18 ,  H01L 31/04
FI (4件):
C01B33/12 C ,  B32B9/00 A ,  B32B5/18 ,  H01L31/04 F
Fターム (34件):
4F100AA20B ,  4F100AK54B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100DD07B ,  4F100DJ01B ,  4F100GB41 ,  4F100JB07 ,  4F100JN06B ,  4F100JN18B ,  4F100YY00B ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072FF01 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK01 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072MM01 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072PP17 ,  4G072RR01 ,  4G072RR12 ,  4G072TT30 ,  4G072UU02 ,  5F051BA18 ,  5F051HA03 ,  5F051HA07
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (1件)
引用文献:
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