特許
J-GLOBAL ID:200903001087365150

スペーサー形成用感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよびその形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 大島 正孝 ,  勝又 秀夫 ,  白石 泰三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-219663
公開番号(公開出願番号):特開2008-122924
出願日: 2007年08月27日
公開日(公表日): 2008年05月29日
要約:
【課題】高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮特性、ラビング耐性、耐熱性などの諸性能に優れたパターン状薄膜を形成することができ、焼成時の昇華物の発生およびLCD表示における焼き付きが抑制され、負荷荷重に対し塑性変形を起こしにくく、配向膜剥離液などの薬液に対する十分な耐性を備えたスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)分子内に2つ以上の重合性不飽和基を含む化合物に由来する重合単位を少なくとも1種含む共重合体、(B)重合性不飽和化合物および(C)感放射線性重合開始剤を含有するスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)(a1)分子内に2つ以上の重合性不飽和基を含む化合物に由来する重合単位を少なくとも1種含む共重合体 (B)重合性不飽和化合物および (C)感放射線性重合開始剤 を含有することを特徴とするスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。
IPC (6件):
G03F 7/038 ,  G03F 7/40 ,  G02F 1/133 ,  G03F 7/027 ,  C08F 2/38 ,  C08F 220/10
FI (6件):
G03F7/038 501 ,  G03F7/40 501 ,  G02F1/1339 500 ,  G03F7/027 ,  C08F2/38 ,  C08F220/10
Fターム (68件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AB13 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC42 ,  2H025BC53 ,  2H025BJ10 ,  2H025CA01 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H089MA04X ,  2H089MA07X ,  2H089NA05 ,  2H089NA17 ,  2H089PA06 ,  2H089PA07 ,  2H089QA14 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  4J011AA05 ,  4J011NA16 ,  4J011NA26 ,  4J011NB04 ,  4J011NC02 ,  4J100AB02P ,  4J100AL08P ,  4J100AL62P ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100FA04 ,  4J100JA38 ,  4J127AA03 ,  4J127AA04 ,  4J127AA06 ,  4J127BB051 ,  4J127BB111 ,  4J127BB221 ,  4J127BC021 ,  4J127BC121 ,  4J127BD421 ,  4J127BD451 ,  4J127BE21Y ,  4J127BE211 ,  4J127BF62Y ,  4J127BF621 ,  4J127BG17Y ,  4J127BG171 ,  4J127BG27Y ,  4J127BG271 ,  4J127CB282 ,  4J127CB371 ,  4J127CC111 ,  4J127DA47 ,  4J127FA00 ,  4J127FA16
引用特許:
出願人引用 (9件)
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