特許
J-GLOBAL ID：200903001417355610

基板処理装置

発明者：
志賀 正佳

志賀 正佳 について

, 
枦木 憲二

枦木 憲二 について

, 
小山 康文

小山 康文 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-328501
公開番号（公開出願番号）：特開2005-093920
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【課題】搬送効率を向上させて高いスループットを得ることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】レジスト塗布処理および現像処理を行う基板処理装置に、現像処理後の基板の検査を行う検査ブロックを組み込む。検査ブロックには、所定内容の検査を行う検査ユニットと、その検査ユニットに対して基板の受け渡しを行う搬送ロボットとを搭載する。検査ブロックに検査対象となる基板が搬送されたときには、搬送ロボットがその基板を検査ユニットに搬入する。一方、検査ブロックに検査対象となっていない基板が搬送されたときには、搬送ロボットがその基板をそのままブロックの出口まで搬送する。このときに、検査の対象となっていない後続の基板が検査対象となっている先行基板を検査ブロックにて追い越すことを許可している。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
インデクサから所定の順序にて払い出された基板にレジスト塗布処理を行うとともに、一旦装置外に搬出されて露光処理が行われて再度装置内に搬入された該基板に現像処理を行った後に該基板を前記インデクサに戻す基板処理装置であって、 現像処理が終了した基板に所定の検査を行う検査ユニットと前記検査ユニットに対して基板の受け渡しを行う搬送機構とを含む検査ブロックを備え、 現像処理が終了した基板のうち検査の対象となっていない基板が検査対象となっている基板を前記検査ブロックにて追い越すことを許可することを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L21/68 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027
FI (3件)：
H01L21/68 A ,  G03F7/30 502 ,  H01L21/30 562
Fターム (31件)：
2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA29 ,  2H096GA60 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031JA22 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA33 ,  5F031PA02 ,  5F046JA22 ,  5F046LA11 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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