特許
J-GLOBAL ID：200903002034957930
空間濾波による画像向上装置および方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-508647
公開番号（公開出願番号）：特表2003-504861
出願日： 2000年06月29日
公開日（公表日）： 2003年02月04日
要約：
【要約】画像向上装置および方法が開示されている。装置は、ゼロ次マスク回折情報が対物レンズの別の瞳孔平面で、特に、マスク平面のちょうど上で、低減される、空間周波数フィルタ(12)で構成されている。角度特定透過フィルタ(12)をマスク(8)のフラウンホーファ回折場に導入することにより、ユーザのアクセス可能性が得られ、周波数濾波に対する実用的な方法が可能になる。この周波数濾波は、透明基板(16)上に被覆した特別に設計された干渉フィルタ(14、15)を用いることにより行われる。別法として、濾波はまたウェハ画像平面に近い相補的領域においてまたはマスク近傍とウェハ近傍平面の両方において行うことができる。
請求項（抜粋）：
画像を光増感半導体ウェハ上に投影する方法であって、 パターンを担持するフォトマスクを照明するために放射ビームを生成する段階と、 前記放射ビームを前記フォトマスクに指し向ける段階と、 前記放射を前記フォトマスクで複数の回折角を持つ回折場に回折させる段階と、 前記フォトマスクから回折された前記場を回折された画像の回折角に応じて濾波する段階と、 前記回折場を対物レンズに指し向ける段階と、 回折され、角度的に濾波された画像で光増感半導体ウェハを照明する段階とを含む方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02B 5/18
, G03F 7/20 521
G02B 5/18
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
2H049AA02
, 2H049AA51
, 2H049AA60
, 2H049AA68
, 5F046BA03
, 5F046CB08
, 5F046CB17
