特許
J-GLOBAL ID：200903002255701558

基板処理装置

発明者：
永見 宗三

永見 宗三 について

, 
白川 元

白川 元 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-374097
公開番号（公開出願番号）：特開2003-170182
出願日： 2001年12月07日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
要約：
【要約】【課題】 基板処理により排出される排液に含まれる有機溶剤を、余分な設備を必要とせずに分解する。【解決手段】 基板処理部10は、第1と第2の基板処理ユニット1,2を備える。第2の基板処理ユニット2は、純水による基板の洗浄を行った後に、有機溶剤としてのIPA蒸気を用いて基板の乾燥を行う。IPA蒸気は処理槽21中の純水に混入し、IPAを含む排液として排出路4b、4cを流れる。この排出路4cに、基板処理装置100のオゾン水供給源72から供給されるオゾン水(IPA分解剤)と、塩酸供給源73から供給される塩酸(IPA分解補助剤)とを供給することにより、排液中のIPAは無害物質へと分解してゆく。これは基板処理装置100内で行われるため、工場設備としてのIPA分解設備は不要となる。
請求項（抜粋）：
処理液により基板を処理する基板処理装置であって、基板処理により生じた排液を排出する排出路と、前記排出路中の排液に含まれる有機溶剤を分解する分解剤を排液に供給する分解剤供給手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
C02F 1/78 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 651
FI (4件)：
C02F 1/78 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 651 H
Fターム (16件)：
2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H090HC18 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  4D050AA13 ,  4D050AB14 ,  4D050BB02 ,  4D050BB04 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA02 ,  4D050CA05
引用特許：
審査官引用 (8件)
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