特許
J-GLOBAL ID:200903002520287319
光触媒及び光触媒の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-263864
公開番号(公開出願番号):特開2004-097954
出願日: 2002年09月10日
公開日(公表日): 2004年04月02日
要約:
【課題】基材と光触媒薄膜との接着性が良好であり、且つ、良好な有機物分解性を示す光触媒を生産性よく製造する方法を提供する。【解決手段】基材上に直接または、該基材上のその他の層を介して、少なくとも光触媒用半導体材料を含有する光触媒層を有する光触媒において、大気圧または大気圧近傍の圧力下、光触媒用半導体材料を形成するための反応性ガスをプラズマ状態とし、該基材または前記基材上のその他の層を、該プラズマ状態の反応性ガスに晒すことにより該光触媒層が形成されていることを特徴とする光触媒。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
基材上に直接または、該基材上のその他の層を介して、少なくとも光触媒用半導体材料を含有する光触媒層を有する光触媒において、大気圧または大気圧近傍の圧力下、光触媒用半導体材料を形成するための反応性ガスをプラズマ状態とし、該基材または前記基材上のその他の層を、該プラズマ状態の反応性ガスに晒すことにより該光触媒層が形成されていることを特徴とする光触媒。
IPC (6件):
B01J35/02
, B01J21/06
, B01J21/08
, B01J37/02
, B01J37/34
, C23C16/40
FI (6件):
B01J35/02 J
, B01J21/06 M
, B01J21/08 M
, B01J37/02 301P
, B01J37/34
, C23C16/40
Fターム (27件):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA02B
, 4G069BA04B
, 4G069BA21C
, 4G069BA48A
, 4G069BC70C
, 4G069CD10
, 4G069DA05
, 4G069EC28
, 4G069ED02
, 4G069FA01
, 4G069FB03
, 4G069FB14
, 4G069FB48
, 4G069FB58
, 4G069FC04
, 4G069FC06
, 4K030AA11
, 4K030AA16
, 4K030AA17
, 4K030BA46
, 4K030BB00
, 4K030JA09
, 4K030JA16
, 4K030JA18
, 4K030LA11
引用特許:
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