特許
J-GLOBAL ID:200903003264211675

熔融石英ガラスおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-235031
公開番号(公開出願番号):特開2008-208017
出願日: 2007年09月11日
公開日(公表日): 2008年09月11日
要約:
【課題】 紫外線、可視光線、赤外線を利用する各種光学材料、半導体製造用部材、液晶製造用部材、MEMS製造用部材、液晶用ガラス基板に好適に利用可能な、紫外線、可視光線、赤外線の透過率が高く、高純度で耐熱性の高く、Cuイオンの拡散速度の遅い熔融石英ガラスを安価に提供する。【解決手段】 波長245nmの紫外光に対する厚さ10mmでの内部透過率が95%以上であり、かつOH含有量が5ppm以下、Li,Na,K,Mg,Ca,Cuの含有量が各々0.1ppm未満であり、好ましくはAlを重量比で2ppm以下含有し、1215°Cにおける粘性率が1012.0Pa・s以上であり、1050°C、大気中でのCuイオンの熱拡散において、表面から20〜100μmの深さにおけるCuイオンの拡散係数が1×10-10cm2/sec以下となる熔融石英ガラスであり、このような熔融石英ガラスは、原料シリカ粉を予めクリストバライト化した後、非還元性雰囲気中で熔融することにより得ることができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
波長245nmの紫外光に対する厚さ10mmでの内部透過率が95%以上であり、かつOH含有量が5ppm以下、Li,Na,K,Mg,Ca,Cuの含有量が各々0.1ppm未満であることを特徴とする熔融石英ガラス。
IPC (1件):
C03B 20/00
FI (3件):
C03B20/00 F ,  C03B20/00 A ,  C03B20/00 K
Fターム (1件):
4G014AH21
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 合成融解石英組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-110105   出願人:ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
  • 高純度石英ガラスの製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-188510   出願人:東ソ-・エスジ-エム株式会社
  • 高純度透明石英ガラス及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-249417   出願人:日東化学工業株式会社, 東ソー株式会社, 日本石英硝子株式会社
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審査官引用 (7件)
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