特許
J-GLOBAL ID：200903003611129429
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-073396
公開番号（公開出願番号）：特開2009-094455
出願日： 2008年03月21日
公開日（公表日）： 2009年04月30日
要約：
【課題】リン酸水溶液のエッチング特性を長時間一定に維持することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】浸漬処理槽10に貯留されているリン酸水溶液中には添加剤投入機構30からヘキサフルオロケイ酸水溶液(H2SiF6+H2O)を含む添加剤が逐次投入される。また、リン酸水溶液中にはトラップ剤投入機構40からホウフッ化水素酸水溶液(HBF4+H2O)を含むトラップ剤が投入される。添加剤の逐次投入によってシリコン窒化膜のエッチングを促進するF-を適宜補充するとともに、その逐次投入によって増加したシロキサンをホウフッ化水素酸が分解したフッ酸によってエッチングすることにより、シロキサン濃度の著しい上昇を抑制する。これにより、シリコン窒化膜およびシリコン酸化膜の双方について初期のエッチングレートを維持することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板をリン酸水溶液中に浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を行う基板処理装置であって、
リン酸水溶液を貯留し、リン酸水溶液中に前記基板を浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を進行させる浸漬処理槽と、
前記浸漬処理槽のリン酸水溶液中にヘキサフルオロケイ酸を含む添加剤を投入する添加剤投入手段と、
前記浸漬処理槽のリン酸水溶液中にホウフッ化水素酸を含むトラップ剤を投入するトラップ剤投入手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/308
H01L21/306 E
, H01L21/308 E
5F043AA35
, 5F043BB23
, 5F043DD23
, 5F043EE23
, 5F043EE27
, 5F043GG10
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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