特許
J-GLOBAL ID：200903003771590904
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-057426
公開番号（公開出願番号）：特開2008-218898
出願日： 2007年03月07日
公開日（公表日）： 2008年09月18日
要約：
【課題】被処理層の実際の残膜量やエッチング深さをオンラインで正確に測定することのできる被処理材の膜厚測定方法を用いたエプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】処理中の試料表面からの複数波長の干渉光を検出する検出器11、試料の処理中の任意の時刻に得られた前記干渉光に関する実偏差パターンデータとこの試料の処理前に得られた別の試料の処理に関する複数波長の干渉光のデータであって前記膜の複数の厚さに各々対応する複数の標準偏差パターンとを比較してその偏差を演算するパターン比較手段15、これらの間の偏差と予め設定された偏差とを比較して試料のその時点の膜の厚さに関するデータを出力する偏差比較手段115、前記膜の厚さに関するデータを時系列データとして記録する残膜厚さ時系列データ記録手段18、前記膜の厚さデータを用いて所定量のエッチングが終了したことを判定する終点判定器230を備えたプラズマ処理装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空容器内に形成したプラズマを用いて真空容器内の試料の表面の膜をエッチング処理するプラズマ処理装置において、
前記処理中の前記試料表面からの複数波長の干渉光を検出する検出器と、
前記試料の処理中の任意の時刻に得られた前記干渉光に関する実偏差パターンデータとこの試料の処理前に得られた別の試料の処理に関する複数波長の干渉光のデータであって前記膜の複数の厚さに各々対応する複数の標準偏差パターンとを比較してその偏差を演算するパターン比較手段と、
これらの間の偏差と予め設定された偏差とを比較して前記試料のその時点の膜の厚さに関するデータを出力する偏差比較手段と、
偏差比較手段の膜の厚さに関するデータを時系列データとして記録する残膜厚さ時系列データ記録手段と、
偏差比較手段からの膜の厚さデータを用いて所定量のエッチングが終了したことを判定する終点判定器と、
を備えた、プラズマ処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
5F004AA16
, 5F004CA07
, 5F004CA08
, 5F004CB02
, 5F004CB09
, 5F004CB15
, 5F004DB02
出願人引用 (7件)
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特開昭61-53728号公報
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特開昭63-200533号公報
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エッチング終点検出方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平3-346102
出願人：シャープ株式会社
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審査官引用 (2件)
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