特許
J-GLOBAL ID:200903004402865742
基板保持構造物および基板処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-237326
公開番号(公開出願番号):特開2005-123582
出願日: 2004年08月17日
公開日(公表日): 2005年05月12日
要約:
【課題】安価に製造でき、かつ熱応力の集中を抑制できる基板保持構造物、及びこれを用いた基板処理装置を提供する。【解決手段】支柱先端部に基板保持台23を設けた基板保持構造物において、前記支柱23Aと前記基板保持台23との接合部に、内周面23fと外周面23B1とで画成されたフランジ部23Bを形成し、その際、前記内周面23fを、前記基板保持台23の下面に向かって前記フランジ部23Bの内径が連続的に増大する傾斜面により形成し、さらに前記フランジ部23Bが結合する前記基板保持台23の下面に、前記フランジ部23Bの外周面23B1に対応してU字型溝23Uを形成する。【選択図】図7
請求項(抜粋):
上端部にフランジ部が形成された支柱と、前記フランジ部に接合された基板保持台とを備えた基板保持構造物であって、
前記基板保持台は加熱機構を含み、
前記基板保持台の下面に、前記フランジ部の外周面に沿って伸びるU字型の溝が形成されており、
前記U字型の溝の内周面と前記フランジ部の外周面とが、連続した単一の面を形成するように、接続されていることを特徴とする基板保持構造物。
IPC (6件):
H01L21/02
, C23C16/46
, H01L21/205
, H01L21/26
, H01L21/3065
, H01L21/68
FI (6件):
H01L21/02 Z
, C23C16/46
, H01L21/205
, H01L21/68 N
, H01L21/302 101G
, H01L21/26 Q
Fターム (16件):
4K030GA02
, 4K030KA23
, 5F004AA16
, 5F004BB26
, 5F004BB29
, 5F004BD04
, 5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA37
, 5F031MA28
, 5F031MA30
, 5F031MA32
, 5F031PA11
, 5F045BB08
, 5F045EK09
, 5F045EM02
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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試料加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-186699
出願人:京セラ株式会社
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試料加熱装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-019216
出願人:京セラ株式会社
-
加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-326479
出願人:日本碍子株式会社
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