電子線装置及びその装置を用いたデバイスの製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：社本一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-181968
公開番号（公開出願番号）：特開2002-373612
出願日： 2001年06月15日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】二次電子を検出器で検出した後、その検出信号を処理する具体的な信号処理回路を提供し、マルチビームを使用する利点を最大限に活用し得る電子線装置を提供する。【解決手段】複数の一次電子線を集束して試料上を走査する一次光学系10、一次電子線により試料から放出された複数の二次電子を各検出器41に導入する二次光学系30及び各検出器から出力される複数の検出信号を画像処理する検出系40を備えている。検出系は、検出器からの検出信号をデジタル信号に変換するA/D変換器42、デジタル信号を二次元パターンに変換する画像形成回路43、二次元パターンのエッジを検出してエッジ画像に変換する回路44、検出された二次元パターンをパターンデータからの二次元パターンと比較するパターン比較回路48、を各検出器毎に独立して備えている。

請求項（抜粋）：

複数の一次電子線を集束して前記電子線で試料上を走査する一次光学系と、前記一次電子線の走査により試料から放出された二次電子を対物レンズに通した後E×B分離器で一次光学系から分離し、複数の二次電子の像を各々の検出器に導入する二次光学系と、各検出器から独立して出力される複数の検出信号を画像処理する検出系とを備えた電子線装置において、前記検出系は、前記検出器からの検出信号をデジタル信号に変換するA/D変換器と、前記デジタル信号から二次元パターンを形成する画像形成回路と、前記二次元パターンのエッジを検出してエッジ画像に変換する回路と、前記検出された二次元パターンをパターンデータからの二次元パターンと比較するパターン比較回路と、を各検出器毎に独立して備えていることを特徴とする電子線装置。

IPC (7件)：

H01J 37/244 , G01N 23/225 , G21K 5/04 , H01J 37/22 502 , H01J 37/28 , H01J 37/29 , G01R 31/02

FI (8件)：

H01J 37/244 , G01N 23/225 , G21K 5/04 M , G21K 5/04 W , H01J 37/22 502 H , H01J 37/28 B , H01J 37/29 , G01R 31/02

Fターム (20件)：

2G001AA03 , 2G001AA10 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001DA09 , 2G001EA05 , 2G001FA01 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001SA01 , 2G014AA01 , 2G014AA02 , 2G014AA03 , 2G014AA08 , 2G014AB59 , 2G014AC11 , 5C033NN01 , 5C033UU04 , 5C033UU05

引用特許：

審査官引用 (8件)

マルチビーム検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-289786 出願人：株式会社ニコン
検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-083406 出願人：株式会社ニコン
検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-228183 出願人：株式会社ニコン

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