特許

J-GLOBAL ID：200903005220621739

反射防止膜形成用組成物およびこれを用いた配線形成方法

発明者： 田中 健 ,  坂本 好謙 ,  高濱 昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-269705
公開番号（公開出願番号）：特開2006-084799
出願日： 2004年09月16日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：

【課題】 レジストパターンと反射防止膜とのエッチングレートの差を大きくできる反射防止膜形成用材料を提供する。【解決手段】 (A)光吸収化合物基を含有するシロキサンポリマーを含むことを特徴とする反射防止膜形成用組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)光吸収化合物基を含有するシロキサンポリマーを含むことを特徴とする反射防止膜形成用組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/11 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/11 503 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 574

Fターム (33件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025DA34 ,  2H025FA35 ,  2H025FA40 ,  4J002CP03W ,  4J002CP05X ,  4J002GP00 ,  4J246AA03 ,  4J246AB06 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA40X ,  4J246CA400 ,  4J246CA42X ,  4J246CA420 ,  4J246CA55X ,  4J246CA550 ,  4J246CB10 ,  4J246GB33 ,  4J246GC21 ,  4J246GC25 ,  4J246GD08 ,  4J246HA11 ,  4J246HA63 ,  4J246HA69 ,  5F046PA07

引用特許：

出願人引用 (4件)

• アクリル系共重合体およびそれを含有する反射防止膜形成組成物並びにレジスト膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-149872   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 米国特許第6365529号明細書(US6,365,529B1)
  
• リソグラフィー用ギャップフィル材形成組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-207811   出願人：日産化学工業株式会社
• フォトリソグラフィ用スピンオンガラス反射防止コーティング
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-503571   出願人：ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド

審査官引用 (6件)

• 反射防止膜材料、反射防止膜を有する基板及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-369596   出願人：信越化学工業株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-287666   出願人：三菱電機株式会社
• 反射防止膜材料、及びこれの製造方法、これを用いた反射防止膜、パターン形成
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-172222   出願人：信越化学工業株式会社, インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
• 半導体装置の製造方法及びパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-157397   出願人：富士通株式会社
• 反射防止膜形成用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-022674   出願人：東京応化工業株式会社
• 特許第6420088号