フォトリソグラフィ用スピンオンガラス反射防止コーティング

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川口義雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-503571
公開番号（公開出願番号）：特表2003-502449
出願日： 2000年06月08日
公開日（公表日）： 2003年01月21日
要約：

【要約】深紫外線フォトリソグラフィ用反射防止コーティング材料は、スピンオンガラス材料に配合された一つ以上の有機光吸収化合物を含有する。適する吸収化合物は、フォトリソグラフィに用いることができる365nm、248nmおよび193nmなどの波長周辺の波長範囲にわたって強く吸収する。吸収スピンオンガラス材料を製造する方法は、スピンオンガラス材料の合成中に、一つ以上の有機吸収化合物をアルコキシシランまたはハロシラン反応体と化合させることを含む。

請求項（抜粋）：

シロキサンポリマーと、約375nmより短い波長における少なくもおよそ10nm幅の波長範囲にわたって光を強く吸収する配合可能な有機吸収化合物とを含んでなる吸収スピンオンガラス組成物。

IPC (7件)：

C09D183/04 , C07F 7/18 , C09D 7/12 , G03F 7/004 506 , G03F 7/075 521 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (7件)：

C09D183/04 , C07F 7/18 K , C09D 7/12 , G03F 7/004 506 , G03F 7/075 521 , G03F 7/11 503 , H01L 21/30 574

Fターム (36件)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025CB33 , 2H025CC02 , 2H025CC20 , 2H025DA34 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ08 , 4H049VQ30 , 4H049VR21 , 4H049VR43 , 4H049VS12 , 4H049VT48 , 4H049VU21 , 4H049VU24 , 4H049VW02 , 4H049VW04 , 4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038GA02 , 4J038GA03 , 4J038GA06 , 4J038GA09 , 4J038GA12 , 4J038GA15 , 4J038JA06 , 4J038JA17 , 4J038JA32 , 4J038JA34 , 4J038JA35 , 4J038JB16 , 4J038JC30 , 4J038KA03 , 5F046PA07 , 5F046PA09

引用特許：

審査官引用 (22件)

SOG組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-211898 出願人：ソニー株式会社
アルカリ可溶性感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-325508 出願人：新日鐵化学株式会社, 新日本製鐵株式会社
螢光又は光増感マーカー染料で官能化された光硬化性エポキシシリコーン
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-246766 出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

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