反射防止膜材料、及びこれの製造方法、これを用いた反射防止膜、パターン形成

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：奥山尚一 , 有原幸一 , 松島鉄男 , 河村英文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-172222
公開番号（公開出願番号）：特開2005-352104
出願日： 2004年06月10日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：

【課題】レジストに対してエッチングン選択比が高い、即ちレジストに対してエッチングスピードが速く、加えて被加工膜にダメージをあたえることなく除去できる特性を有する反射防止膜の材料を提供し、且つこの反射防止膜材料を用いて基板上に反射防止膜層を形成するパターン形成法及び、この反射防止膜を基板加工のハードマスクとして用いるパターン形成法及び、この反射防止膜を基板加工のハードマスクとして用いるパターン形成方法も提供する。【解決手段】 1種類以上の珪素化合物を加水分解及び縮合させて得られる光吸収性基と架橋性基と非架橋性基を有する重合体並びに有機溶剤並びに架橋剤を含む反射防止膜形成用組成物を提供する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される共重合による繰り返し単位Ua、Ub、Ucを含んでなる高分子化合物

IPC (3件)：

G03F7/11 , C08G77/14 , H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/11 503 , C08G77/14 , H01L21/30 574

Fターム (40件)：

2H025AA00 , 2H025AA17 , 2H025AB16 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025DA34 , 2H025FA35 , 2H025FA39 , 2H025FA48 , 4J246AA03 , 4J246AB11 , 4J246BA12X , 4J246BA120 , 4J246BA16X , 4J246BA160 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB022 , 4J246CA260 , 4J246CA40X , 4J246CA400 , 4J246CA450 , 4J246CA530 , 4J246CA56X , 4J246CA560 , 4J246CA630 , 4J246CA64X , 4J246CA640 , 4J246CA650 , 4J246CA67X , 4J246CA670 , 4J246CA680 , 4J246CA69X , 4J246CA690 , 4J246FA081 , 4J246FA121 , 4J246FA421 , 4J246FA441 , 4J246HA15 , 5F046PA07

引用特許：

出願人引用 (10件)

特公平7-69611号公報
USP 6,506,497
シリカ基材非反射性平面化層
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-261270 出願人：エヌ・シー・アール・コーポレイシヨン

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審査官引用 (6件)

反射防止膜形成用組成物及びそれに用いるラダー型シリコーン共重合体
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-396335 出願人：東京応化工業株式会社
反射防止膜材料、反射防止膜を有する基板及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-369596 出願人：信越化学工業株式会社
反射防止膜材料、これを用いた反射防止膜及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-165524 出願人：信越化学工業株式会社

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