特許
J-GLOBAL ID：200903005268749451
パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-165963
公開番号（公開出願番号）：特開2007-335647
出願日： 2006年06月15日
公開日（公表日）： 2007年12月27日
要約：
【課題】本発明は、生産効率に優れ、かつ高精細な凹凸パターンを有するパターン形成体を得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、基材1と上記基材上に形成された被転写樹脂層2とを有する被転写体3を、円柱型のローラー4の表面に沿わせ、上記ローラー4を回転させながら、上記被転写樹脂層2とナノ凹凸パターン6を有する平板型モールド5とを密着させる密着工程と、上記被転写樹脂層2と上記平板型モールド5とが密着している状態で、上記被転写樹脂層2を固化する固化工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材と前記基材上に形成された被転写樹脂層とを有する被転写体を、円柱型のローラーの表面に沿わせ、前記ローラーを回転させながら、前記被転写樹脂層とナノ凹凸パターンを有する平板型モールドとを密着させる密着工程と、
前記被転写樹脂層と前記平板型モールドとが密着している状態で、前記被転写樹脂層を固化する固化工程と、
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
4F209AA36
, 4F209AD08
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AJ06
, 4F209PA02
, 4F209PA03
, 4F209PB01
, 4F209PB02
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN13
, 5F046AA28
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (6件)
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