光学クリスタル、または、レーザクリスタル、それぞれ、のための冷却装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-522654
公開番号（公開出願番号）：特表2001-524761
出願日： 1998年10月22日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：

【要約】本発明はペルチエ要素(18)を具備し、主に、高い熱応力にさらされレーザビーム(2)、基本的にはレーザパルスを発生する光学クリスタルまたはレーザクリスタル(5)の冷却を意図した冷却装置(7)に関する。この装置は、例えば、光学増幅器または発振器の冷却に使用される。クリスタルの焼損を避けつつ効果的な冷却をおこなうために、クリスタル(5)はそれを冷却するペルチエ要素(18)と共に、乾燥材を使用して真空排気され、および、または、乾燥状態にされた密封容器(8)内に配設される。クリスタルは、レーザビーム(2)を通過せしめる少なくとも1つのブリュースターの窓(32、33)を有し、その窓は光学軸に対してブリュースター角に対応する角度で取り付けられている。

請求項（抜粋）：

熱的に高い負荷がかかるレーザビーム、特に、レーザパルスが生得される光学クリスタル、または、レーザクリスタル(5)、それぞれ、のためのペルチエ要素(18)を具備する冷却装置であって、クリスタル(5)がその冷却のためのペルチエ要素(18)と共に、密封容器(8)に収容され、容器(8)が内部が乾燥材によって真空排気され、および、または、乾燥状態に保持され、容器(8)が、ブリュースター角に対応する光学軸に対して角度を成して配設された少なくとも1つのレーザビーム(2)の通過のためのブリュースター窓(32、33)を有していることを特徴とする冷却装置。

IPC (2件)：

H01S 3/042 , H01S 3/02

FI (2件)：

H01S 3/02 , H01S 3/04 L

Fターム (9件)：

5F072AB20 , 5F072JJ20 , 5F072KK13 , 5F072MM03 , 5F072PP10 , 5F072SS06 , 5F072TT01 , 5F072TT05 , 5F072TT22

引用特許：

審査官引用 (14件)

レーザ光発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-033754 出願人：ソニー株式会社
特開平2-156583
特開昭64-072576

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