特許

J-GLOBAL ID：200903006239643640

感光性樹脂組成物

発明者： 上田 充 ,  福川 健一 ,  宮川 堅次
出願人/特許権者： 関西ペイント株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-133765
公開番号（公開出願番号）：特開2005-316117
出願日： 2004年04月28日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：

【課題】 厚膜でも塗膜欠陥が発生せず、耐熱性、機械特性、加工性および電気特性に優れ、かつ高解像回路パターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体、【化1】し、nは2〜300の数である)(B)一分子中に少なくとも2個のビニルエーテル基を有する化合物、及び(C)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体、

IPC (6件)：

G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/037 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

FI (6件)：

G03F7/039 501 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/037 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (28件)：

2H025AA10 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB26 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA39 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096DA01 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H096JA04

引用特許：

出願人引用 (8件)

• 特公昭55-030207号公報
  
• 特開昭54-145794号公報
  
• ポジ型感光性ポリイミド前駆体組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-111666   出願人：東レ株式会社
• ポリイミド前駆体およびポリイミド、並びにネガ型感光性材料およびネガ型パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-327498   出願人：日東電工株式会社
• ポジ型感光性樹脂前駆体組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-314745   出願人：東レ株式会社
• 炭酸エステル側鎖を含むポリアミド重合体と耐熱性ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-196489   出願人：韓國化學研究所
• アセタール又はその環状誘導体の側鎖を有するポリアミド及びそれから調製された耐熱性ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-226637   出願人：コリアリサーチインスティチユートオブケミカルテクノロジイ
• ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-048025   出願人：日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社

審査官引用 (4件)

• 感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-343030   出願人：東芝ケミカル株式会社
• 耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いた感光性基材ならびにパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-310147   出願人：日東電工株式会社
• ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-191764   出願人：関西ペイント株式会社, 三井化学株式会社
• 感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-195991   出願人：京セラケミカル株式会社