特許
J-GLOBAL ID：200903006833079224

仮想接面測定用の干渉計装置

発明者：
植木 伸明

植木 伸明 について


出願人/特許権者：
フジノン株式会社

フジノン株式会社 について


代理人 (1件)： 川野 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-250877
公開番号（公開出願番号）：特開2006-064669
出願日： 2004年08月30日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：
【課題】互いに平行な相異なる仮想面上にそれぞれ位置するように形成された複数種の小被検面を有する被検体において、低可干渉性の測定光を用いるとともに各小被検面の光検出面における像の形成状態を調整することにより、各小被検面の高さ方向に対する同一平面性を容易かつ高精度に測定できるようにする。【解決手段】光源11は低可干渉性光源であり、第1の測定時には各金属配線55の上面55aからの反射光と基準面21aからの反射光とが干渉し、第2の測定時には各導電層小域面54bからの反射光と基準面21aからの反射光が干渉するように光路調整がなされる。光検出面27は複数の検出単位領域に分割されており、検出単位領域ごとに平均化されて検出された各光強度に基づき、各金属配線55の上面55aまたは各導電層小域面54bに接する第1または第2の仮想接面の全体的な形状に対応した干渉縞情報を得る。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
第1の基準仮想面上に第1の配置パターンで位置するように形成された第1の小被検面と前記第1の基準仮想面と略平行な第2の基準仮想面上に第2の配置パターンで位置するように形成された第2の小被検面とを有する被検体、および干渉計の基準面に測定光を照射し、前記第1または第2の小被検面からの反射光と前記基準面からの反射光とを合波して干渉光を得る干渉光学系と、前記干渉光の光強度分布を検出する光検出面とを備えた干渉計装置であって、 前記測定光は、前記第1の小被検面からの反射光と前記第2の小被検面からの反射光との光路長差よりも短い可干渉距離を有する低可干渉光であり、 前記第1の小被検面を測定対象とする第1の測定時には該第1の小被検面からの反射光と前記基準面からの反射光とが干渉するように光路長を調整し、前記第2の小被検面を測定対象とする第2の測定時には該第2の小被検面からの反射光と前記基準面からの反射光とが干渉するように光路長を調整する光路長調整手段と、 前記光検出面上に分割設定された複数の検出単位領域の各々に、前記第1の測定時には前記第1の小被検面の像の少なくとも一部分が形成されるようにし、前記第2の測定時には前記第2の小被検面の像の少なくとも一部分が形成されるようにする像形成調整手段と、 前記検出単位領域ごとに平均化されて検出された各光強度に基づき、前記第1の測定時には前記第1の小被検面と接する第1の仮想接面の形状に対応した第1の干渉縞情報を得、前記第2の測定時には前記第2の小被検面と接する第2の仮想接面の形状に対応した第2の干渉縞情報を得る干渉縞情報取得手段とを備えていることを特徴とする仮想接面測定用の干渉計装置。
IPC (2件)：
G01B 11/26 ,  G01B 9/02
FI (2件)：
G01B11/26 G ,  G01B9/02
Fターム (22件)：
2F064AA09 ,  2F064BB07 ,  2F064CC10 ,  2F064EE01 ,  2F064FF02 ,  2F064FF03 ,  2F064GG22 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ02 ,  2F065AA24 ,  2F065AA50 ,  2F065BB02 ,  2F065CC17 ,  2F065FF51 ,  2F065GG02 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065HH03 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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