特許
J-GLOBAL ID：200903007211604522
フォトマスクのパーティクル除去方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松下 義治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-319360
公開番号（公開出願番号）：特開2005-084582
出願日： 2003年09月11日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】洗浄以外の方法でクリーンかつ確実にフォトマスク上に存在する数個以下のパーティクルを除去する。【解決手段】高い位置決め精度を有する走査プローブ顕微鏡の探針2とフォトマスク上のパーティクル1間の力学的・電磁気学的な相互作用または化学反応を利用して転写に影響を与えるパーティクルをフォトマスク上からクリーンかつ確実に除去する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
走査プローブ顕微鏡探針をパーティクルの側面に当てて押しつけてフォトマスク上に付着したパーティクルを移動させることで除去することを特徴とするフォトマスクのパーティクル除去方法。
IPC (5件)：
G03F1/08
, G01N13/14
, G01N13/16
, H01L21/027
, H01L21/304
G03F1/08 X
, G01N13/14 A
, G01N13/16 A
, H01L21/304 641
, H01L21/304 642Z
, H01L21/30 502P
