特許
J-GLOBAL ID：200903007255100270
カーボンナノチューブ製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
日比 紀彦
, 岸本 瑛之助
, 渡邊 彰
, 松村 直都
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-154322
公開番号（公開出願番号）：特開2009-298639
出願日： 2008年06月12日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：
【課題】反応容器内の汚れを抑制することにより、カーボンナノチューブを安定して製造し、反応容器内の洗浄工程を大幅に削減する。しかも、カーボンナノチューブの連続的製造を可能とする。【解決手段】カーボンナノチューブ製造装置は、生成部22に一方向のCVDガス流れを生じさせるCVDガス手段を備えている。生成部22に、基板Pを載せるための支持体13が配置されている。支持体13の上方に、下向き基板収容凹所44を有する可動容器32が上下動しうるように配置されている。上昇時の可動容器32の下方に対し、カーボンナノチューブ生成前の基板Pが搬入され、カーボンナノチューブ生成後の基板Pが搬出されるようになされている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
生成部に一方向のCVDガス流れを生じさせるCVDガス手段を備えており、生成部に保持された基板の表面にカーボンナノチューブが生成されるようになされているカーボンナノチューブ製造装置において、
生成部に、基板を載せるための支持体が配置されており、支持体の上方に、下向き基板収容凹所を有する可動容器が上下動しうるように配置されており、上昇時の可動容器の基板収容凹所下方に対し、カーボンナノチューブ生成前の基板が搬入され、カーボンナノチューブ生成後の基板が搬出されるようになされていることを特徴とするカーボンナノチューブ製造装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (19件)：
4G146AA11
, 4G146AB06
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB23
, 4G146BC01
, 4G146BC09
, 4G146BC42
, 4G146BC44
, 4G146DA03
, 4G146DA23
, 4G146DA26
, 4G146DA27
, 4G146DA34
, 4G146DA41
, 4G146DA43
, 4G146DA45
, 4G146DA46
, 4G146DA48
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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