特許
J-GLOBAL ID：200903020575717655

ナノカーボンの連続製造装置及びその連続製造方法

発明者：
神山 隆夫

神山 隆夫 について

, 
徐 国春

徐 国春 について

, 
清水 一樹

清水 一樹 について


出願人/特許権者：
神山 隆夫

神山 隆夫 について


代理人 (3件)： 林 宏 ,  後藤 正彦 ,  林 直生樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-307638
公開番号（公開出願番号）：特開2007-112677
出願日： 2005年10月21日
公開日（公表日）： 2007年05月10日
要約：
【課題】基板を有する回転テーブルを用いて基板法CVDの連続運転を実現可能にし、基板法の利点を生かした安定性、制御性の良いナノカーボンの連続製造装置を提供する。【解決手段】チャンバー1内において、一つの円周上に複数の面状ヒーター11を等分位置に配置し、その上方に、同じ円周上で同じ等分位置にそれぞれ基板22が配設された回転テーブル20を回転可能に設置し、この回転テーブルの上方に、上記円周上における面状ヒーター11の配置の等分位置に対応させて、触媒導入部、触媒前処理部、ナノカーボン生成部、生成物回収部、及び基板クリーニング部を形成する部室31,32,33を設ける。回転テーブル20の一方向への回転により、該回転テーブル上の基板22が上記の順で各部室に対面する位置に順次移動し、ナノカーボンが連続的に製造される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
チャンバー内において、一つの円周上に複数の面状ヒーターを等分位置に配置し、 その上方に、該面状ヒーターと同じ円周上で同じ等分位置にそれぞれ基板が配設された回転テーブルを回転可能に設置し、 この回転テーブルの上方に、上記円周上における面状ヒーターの配置の等分位置に対応させて、触媒導入部、触媒前処理部、ナノカーボン生成部、生成物回収部、基板クリーニング部のいずれかまたはその複数を形成する部室を設けた、 ことを特徴とするナノカーボンの連続製造装置。
IPC (1件)：
C01B 31/02
FI (1件)：
C01B31/02 101F
Fターム (16件)：
4G146AA11 ,  4G146AB06 ,  4G146BA12 ,  4G146BA38 ,  4G146BA48 ,  4G146BC23 ,  4G146BC24 ,  4G146BC25 ,  4G146DA03 ,  4G146DA21 ,  4G146DA22 ,  4G146DA23 ,  4G146DA27 ,  4G146DA31 ,  4G146DA43 ,  4G146DA45
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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