特許
J-GLOBAL ID：200903007409573711

高度清浄装置,局所清浄システム及びオゾン分解フィルタとその製造方法

発明者：
佐藤 克己

佐藤 克己 について

, 
阪田 総一郎

阪田 総一郎 について

, 
高橋 秀人

高橋 秀人 について


出願人/特許権者：
高砂熱学工業株式会社

高砂熱学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 康司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228056
公開番号（公開出願番号）：特開2001-046822
出願日： 1999年08月11日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】 安全かつ低コストでオゾンを数十ppbレベル以下にまで低減でき,しかも半導体デバイスの製造などに有害なガス状不純物を副生成物として発生しない手段を提供する。【解決手段】 区画された空間10内に清浄な空気を循環供給させる空気の循環路が形成された高度清浄装置1であって,前記循環路に,送風手段15と,高性能フィルタ17と,酸化マンガンを担持したオゾン分解フィルタ16を備える。高性能フィルタ17によって塵埃のない清浄な状態にし,オゾン分解フィルタ16によってオゾン濃度を数十ppbレベル以下にまで低減させた空気を区画された空間10内に循環供給する。またオゾン分解フィルタ16に担持された酸化マンガンからは,ガス状酸性不純物やガス状塩基性不純物またはガス状有機不純物などの製品に悪影響を及ぼす副生成物が発生しない。
請求項（抜粋）：
区画された空間内に清浄な空気を循環供給させる空気の循環路が形成された高度清浄装置であって,前記循環路に,送風手段と,高性能フィルタと,酸化マンガンを担持したオゾン分解フィルタを備えることを特徴とする,高度清浄装置。
IPC (4件)：
B01D 46/00 ,  F24F 7/06 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/304 648
FI (4件)：
B01D 46/00 F ,  F24F 7/06 C ,  H01L 21/02 D ,  H01L 21/304 648 L
Fターム (10件)：
3L058BE02 ,  3L058BF01 ,  3L058BF03 ,  3L058BG03 ,  4D058JA14 ,  4D058KC02 ,  4D058SA04 ,  4D058TA01 ,  4D058UA03 ,  4D058UA25
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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