研磨布

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-242308
公開番号（公開出願番号）：特開2007-054910
出願日： 2005年08月24日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：

【課題】本発明は、凹凸の鋭角性に優れ且つ線密度の高いテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ0.3nm以下という高精度なテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する。【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊度が0.0001〜0.01dtexのポリエステル極細繊維束が絡合してなる不織布と、その不織布内部空間に存在するポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とからなるシート状物であって、該シート状物の少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有し、極細繊維の固有粘度が0.70〜1.50であることを特徴とする研磨布である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも、平均繊度が0.0001〜0.01dtexのポリエステル極細繊維束が絡合してなる不織布と、その不織布内部空間に存在するポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、該シート状物の少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有し、該極細繊維の固有粘度が0.70〜1.50であることを特徴とする研磨布。

IPC (2件)：

B24B 37/00 , D04H 1/42

FI (3件)：

B24B37/00 C , D04H1/42 X , D04H1/42 T

Fターム (14件)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058CA01 , 3C058CB01 , 3C058DA17 , 4L047AA21 , 4L047AB02 , 4L047AB07 , 4L047AB08 , 4L047BA03 , 4L047CA19 , 4L047CB10 , 4L047CC16 , 4L047DA00

引用特許：

出願人引用 (15件)

研磨シート
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-023149 出願人：日本バイリーン株式会社
精密機器製造用研磨シート
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-118396 出願人：日本バイリーン株式会社
磁気記録媒体加工用テープおよび磁気記録媒体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-041762 出願人：東レ株式会社

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審査官引用 (5件)

研磨布
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-308649 出願人：東レ株式会社
磁気ディスクテクスチャー加工用基布
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-327621 出願人：東レ株式会社
研磨用複合繊維
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-273918 出願人：東レ株式会社

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