基板処理装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-304412
公開番号（公開出願番号）：特開2001-127034
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】処理液中の気泡を早急かつ確実に検出することで、基板の処理むらの発生および基板の汚染を未然に防止することができる基板処理装置、または、ベローズの破損を早急かつ確実に検出することで、基板の処理むらの発生および基板の汚染を未然に防止することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】液配管20に設けられた光学式センサ50は、液配管20に向けて光Lを発する投光部51と、投光部51から発せられて処理液流通配管20を透過した光Lを受ける受光部52を有し、液配管20内の処理液に含まれる気泡を検出するものである。そして、この投光部51から発せられて液配管20を透過した光Lは、液配管20内の液流れ方向Fに沿って広がる幅を持つほぼ平板状の光となっている。

請求項（抜粋）：

処理液を用いて基板を処理する基板処理装置において、処理液が内部を流通する処理液流通配管と、この処理液流通配管の近傍に設けられ、少なくとも、処理液流通配管内の処理液の流れ方向に幅を持つ光を処理液流通配管に向けて発する投光部、および、処理液流通配管を挟んで投光部に対向する位置に設けられ、投光部から発せられて処理液流通配管を透過した上記処理液の流れ方向に幅を持つ光を受ける受光部を有し、上記処理液流通配管内の処理液に含まれる気泡を検出する光学式検出機構と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/306 , G01N 21/85 , G01N 29/02 , H01L 21/304 648 , H01L 21/304

FI (5件)：

G01N 21/85 B , G01N 29/02 , H01L 21/304 648 G , H01L 21/304 648 K , H01L 21/306 J

Fターム (23件)：

2G047AA03 , 2G047BA01 , 2G047BC03 , 2G047EA10 , 2G047EA11 , 2G047GG28 , 2G047GG33 , 2G051AA48 , 2G051AB20 , 2G051CB02 , 2G051CC17 , 2G051EB01 , 5F043AA01 , 5F043DD25 , 5F043DD30 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE22 , 5F043EE24 , 5F043EE25 , 5F043EE28 , 5F043EE29 , 5F043EE30

引用特許：

出願人引用 (9件)

薬液供給装置及び薬液供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-247429 出願人：ソニー株式会社
超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-198566 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-327904 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (7件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-325332 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
薬液供給装置及び薬液供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-247429 出願人：ソニー株式会社
超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-198566 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社

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