特許
J-GLOBAL ID：200903007962734901

レーザ照明光学系及びそれを用いた露光装置、レーザ加工装置、投射装置

発明者：
宮垣 一也

宮垣 一也 について

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亀山 健司

亀山 健司 について

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加藤 幾雄

加藤 幾雄 について

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逢坂 敬信

逢坂 敬信 について

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滝口 康之

滝口 康之 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-074027
公開番号（公開出願番号）：特開2003-270585
出願日： 2002年03月18日
公開日（公表日）： 2003年09月25日
要約：
【要約】【課題】レーザアレイ光源のアレイ垂直方向の光束に起因する干渉縞を減らし、被照射部への照明性能と光利用効率を向上させることができ、照度の均一化を図ることができるレーザ照明光学系を実現する。【解決手段】本発明のレーザ照明光学系は、少なくとも、複数のレーザ光を出射するレーザアレイ光源11と、該レーザアレイ光源11と被照射部13との間に配設されレーザアレイ光源11から出射される各々のレーザ光を矩形状の均一照度の光束に変換して被照射部13に照射するホログラム素子12とを有することを特徴としており、レーザアレイ光源11から出射されるガウシアンプロファイル特性のレーザアレイ光をホログラム素子12により矩形状の均一強度の光束に変換し、被照射部上で隣接して照明するので、被照射部で干渉縞が発生しにくく、コンパクトで光利用効率が高い照明光学系を実現できる。
請求項（抜粋）：
少なくとも、複数のレーザ光を出射するレーザアレイ光源と、該レーザアレイ光源と被照射部との間に配設され前記レーザアレイ光源から出射される各々のレーザ光を矩形状の均一照度の光束に変換して前記被照射部に照射するホログラム素子とを有することを特徴とするレーザ照明光学系。
IPC (8件)：
G02B 27/09 ,  G02B 5/32 ,  G02B 27/00 ,  G03B 21/00 ,  G03B 21/14 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027 ,  H04N 5/74
FI (8件)：
G02B 5/32 ,  G03B 21/00 D ,  G03B 21/14 A ,  G03F 7/20 505 ,  H04N 5/74 H ,  G02B 27/00 E ,  G02B 27/00 V ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (29件)：
2H049CA05 ,  2H049CA08 ,  2H049CA09 ,  2H049CA15 ,  2H049CA18 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097BB01 ,  2H097BB10 ,  2H097CA03 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097LA10 ,  2H097LA20 ,  2K103AA05 ,  2K103BA02 ,  2K103BA11 ,  2K103BC26 ,  2K103BC32 ,  5C058BA33 ,  5C058EA05 ,  5C058EA11 ,  5C058EA26 ,  5C058EA51 ,  5F046CA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB14 ,  5F046CB23
引用特許：
審査官引用 (17件)
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