特許
J-GLOBAL ID:200903008446890812
チャンバ装置、これを備えた電気光学装置および有機EL装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
落合 稔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-078723
公開番号(公開出願番号):特開2003-272847
出願日: 2002年03月20日
公開日(公表日): 2003年09月26日
要約:
【要約】【課題】 チャンバルーム内に入室する作業者の酸欠を確実に防止することができるチャンバ装置、これを備えた電気光学装置および有機EL装置を提供する。【解決手段】 不活性ガスをチャンバルーム11に対し連続させて補給および排気することで、チャンバルーム内に不活性ガスの新鮮な雰囲気を構成すると共に、不活性ガスの補給を停止した状態でチャンバルーム内に外気を導入可能なチャンバ装置3であって、チャンバルーム内の酸素濃度を計測する酸素濃度計測手段191と、チャンバルームの開口部に装着された着脱パネル体113,114と、着脱パネル体を閉塞ロックする電磁ロック機構129と、電磁ロック機構のロック・アンロックを制御するロック制御手段271と、を備え、ロック制御手段は、外気導入時において、酸素濃度計測手段の計測結果が所定値を超えたとき、電磁ロック機構をアンロック制御するものである。
請求項(抜粋):
ガス供給源から導入した不活性ガスをチャンバルームに対し連続させて補給および排気することで、前記チャンバルーム内に不活性ガスの新鮮な雰囲気を構成すると共に、前記不活性ガスの補給を停止した状態で前記チャンバルーム内に外気を導入可能なチャンバ装置であって、前記チャンバルーム内に不活性ガスを補給すると共にガスダンパーを介設したガス供給流路と、前記チャンバルーム内の雰囲気を排気すると共に排気ダンパーを介設した排気流路と、前記チャンバルーム内の酸素濃度を計測する酸素濃度計測手段と、前記チャンバルームの開口部に装着された着脱パネル体と、前記着脱パネル体を閉塞ロックする電磁ロック機構と、前記電磁ロック機構のロック・アンロックを制御するロック制御手段と、を備え、前記ロック制御手段は、外気導入時において、前記酸素濃度計測手段の計測結果が所定値を超えたとき、前記電磁ロック機構をアンロック制御することを特徴とするチャンバ装置。
IPC (5件):
H05B 33/10
, B01J 19/00
, B41J 2/01
, H01L 21/02
, H05B 33/14
FI (5件):
H05B 33/10
, B01J 19/00 K
, H01L 21/02 Z
, H05B 33/14 A
, B41J 3/04 101 Z
Fターム (14件):
2C056EA24
, 2C056FB01
, 3K007AB11
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 3K007FA03
, 4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075AA65
, 4G075BB10
, 4G075CA62
, 4G075DA02
, 4G075EB01
引用特許:
出願人引用 (11件)
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イオン処理装置の処理室のベント方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-257842
出願人:日新電機株式会社
-
ガス濃度制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-246666
出願人:トキコ株式会社
-
有機EL表示装置の製造装置及び製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-322809
出願人:ティーディーケイ株式会社
-
警報機能付き酸素濃度検知装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-225169
出願人:株式会社リケン
-
ドライ現像装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-120135
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
恒温槽
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-344719
出願人:日本電気ファクトリエンジニアリング株式会社, 日本電気株式会社
-
投影露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-031868
出願人:株式会社ニコン
-
ガス循環システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-000917
出願人:株式会社荏原製作所, 株式会社荏原電産
-
表示装置の製造方法及び製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-321757
出願人:株式会社東芝
-
成膜装置及びそれを用いた発光装置の作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-358857
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
-
発光装置の作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-142465
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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審査官引用 (11件)
-
イオン処理装置の処理室のベント方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-257842
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出願番号:特願平5-225169
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出願番号:特願平9-120135
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投影露光装置
公報種別:公開公報
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出願番号:特願2000-000917
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表示装置の製造方法及び製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-321757
出願人:株式会社東芝
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成膜装置及びそれを用いた発光装置の作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-358857
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
-
発光装置の作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-142465
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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