デバイス製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-036666
公開番号（公開出願番号）：特開2002-246283
出願日： 2001年02月14日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
要約：

【要約】【課題】運用コストの低減を図り、作業を妨げるような気体が低濃度になるまでの時間を短縮し、メンテナンスの時間を短縮するデバイス製造装置を提供する。【解決手段】デバイス製造装置における投影光学系5に混合気体(オゾン、窒素等)を供給する手段であるポンプ部10、オゾン発生装置12、オゾン発生用ランプ11および配管14a,14b等と、露光装置の動作状態によって前記混合気体の流量を可変する手段、および/または、前記混合気体の成分比を可変する手段である装置制御部8、混合気体制御部9およびランプ電源部7等を有する。

請求項（抜粋）：

投影光学系と該投影光学系に気体を供給する手段とを備えるデバイス製造装置において、前記気体の流量を当該デバイス製造装置の動作状態の変化に応じて変化させる流量制御手段を有することを特徴とするデバイス製造装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/30 503 G , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 516 F

Fターム (10件)：

5F046AA22 , 5F046AA28 , 5F046BA03 , 5F046CA02 , 5F046CB23 , 5F046CB25 , 5F046DA01 , 5F046DA27 , 5F046DB03 , 5F046DD06

引用特許：

審査官引用 (11件)

露光方法とこれを用いたデバイスの製造方法、および露光装置とこれを用いたデバイスの製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-180953 出願人：株式会社ニコン
露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-097227 出願人：キヤノン株式会社
デバイス製造支援装置、デバイス製造システム、及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-359853 出願人：株式会社ニコン

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