特許
J-GLOBAL ID：200903008909555384

ネガ型ホトレジスト組成物を用いた多段メッキ形成物の形成方法およびこれに用いられる感光性組成物

発明者：
増田 靖男

増田 靖男 について

, 
鷲尾 泰史

鷲尾 泰史 について

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斎藤 宏二

斎藤 宏二 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-195034
公開番号（公開出願番号）：特開2006-017969
出願日： 2004年06月30日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】 メッキ高さが高く多段段差形状を有するメッキ形成物の形成を可能にする。【解決手段】ネガ型ホトレジスト組成物を、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)酸発生剤、(c)その他の成分を含有するネガ型ホトレジスト組成物とし、(A)ネガ型ホトレジスト組成物の層を形成し、加熱後、露光する。(B)前記工程(A)を2回以上繰り返してネガ型ホトレジスト層を積み重ねた後、全ての層を同時に現像することで多層レジストパターンを形成する。(C)多層レジストパターンにメッキ処理を行うことによりメッキ形成物を形成する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)ネガ型ホトレジスト組成物の層を形成し、加熱後、露光、必要に応じて加熱する工程と、 (B)前記工程(A)を計2回以上繰り返してネガ型ホトレジスト層を積み重ねた後、全ての層を同時に現像することで多層レジストパターンを形成する工程と、 (C)多層レジストパターンにメッキ処理を行う工程からなるメッキ形成物の形成方法において、 前記ネガ型ホトレジスト組成物が、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)酸発生剤、(c)その他の成分を含有するネガ型ホトレジスト組成物であることを特徴とするメッキ形成物の形成方法。
IPC (8件)：
G03F 7/038 ,  B29C 67/00 ,  C23C 18/18 ,  C23C 18/31 ,  C25D 5/02 ,  C25D 7/00 ,  G03F 7/26 ,  G03F 7/40
FI (10件)：
G03F7/038 601 ,  B29C67/00 ,  C23C18/18 ,  C23C18/31 A ,  C25D5/02 E ,  C25D7/00 S ,  C25D7/00 Y ,  C25D7/00 Z ,  G03F7/26 511 ,  G03F7/40 521
Fターム (53件)：
2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025DA12 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA43 ,  2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096BA06 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA27 ,  2H096KA01 ,  2H096KA14 ,  4F213AA44 ,  4F213AH12 ,  4F213WA25 ,  4F213WA54 ,  4F213WA67 ,  4F213WB01 ,  4F213WL02 ,  4F213WL12 ,  4F213WL55 ,  4K022AA01 ,  4K022AA37 ,  4K022AA41 ,  4K022BA03 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA32 ,  4K022CA25 ,  4K022DA01 ,  4K024AA03 ,  4K024AA09 ,  4K024AA11 ,  4K024AA22 ,  4K024AB01 ,  4K024AB08 ,  4K024BA12 ,  4K024BB28 ,  4K024BC10 ,  4K024FA06 ,  4K024GA16
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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