特許
J-GLOBAL ID：200903009278829068

薄膜トランジスタ液晶表示装置製造用フォトマスク

発明者：
李 得 秀

李 得 秀 について

, 
田 正 牧

田 正 牧 について


出願人/特許権者：
株式会社ハイニックスセミコンダクター

株式会社ハイニックスセミコンダクター について


代理人 (1件)： 瀬谷 徹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-163372
公開番号（公開出願番号）：特開2002-055364
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年02月20日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン露光時にチャネル領域の終端で屈曲が発生するのを防ぐことができるTFT-LCD製造用フォトマスクを提供する。【解決手段】 透光性基板30と、透光性基板30上に形成された遮蔽パターン40で構成され、遮蔽パターン40はソース及びドレイン形成領域を覆うように隔離して配置されるボックス(Box)タイプの一対の第1遮蔽パターン31と、第1遮蔽パターン31の間に配置され半透過領域を構成するバー(Bar)タイプの一対の第2遮蔽パターン32、及びチャネル部終端で光透過領域(A)と遮蔽領域(B)間の境界が形成されるよう、第1及び第2遮蔽パターン31、32の下部及び上部のそれぞれに配置されるバータイプの第3遮蔽パターン33を含むことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透光性基板と、前記透光性基板上に形成された遮蔽パターンで構成され、前記遮蔽パターンは、ソース、及びドレイン形成領域を覆うように隔離して配置されるボックス(Box)タイプの一対の第1遮蔽パターンと、前記第1遮蔽パターンの間に配置され半透過領域を構成するバー(Bar)タイプの一対の第2遮蔽パターン、及びチャネル部終端で光透過領域と遮蔽領域間の境界が形成されるように、前記第1及び第2遮蔽パターンの下部及び上部のそれぞれに配置されるバータイプの第3遮蔽パターンを含むことを特徴とする薄膜トランジスタ液晶表示装置製造用フォトマスク。
IPC (5件)：
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 500 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786
FI (5件)：
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 500 ,  G03F 1/08 D ,  G03F 1/08 G ,  H01L 29/78 627 C
Fターム (33件)：
2H091FA02Y ,  2H091FA35Y ,  2H091GA01 ,  2H091GA13 ,  2H091LA30 ,  2H092JA24 ,  2H092JA34 ,  2H092JA37 ,  2H092JA41 ,  2H092MA13 ,  2H092MA14 ,  2H092MA16 ,  2H092NA21 ,  2H092PA01 ,  2H092PA08 ,  2H092PA09 ,  2H095BA12 ,  2H095BB02 ,  2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BC09 ,  5F110AA06 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110EE02 ,  5F110EE43 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110QQ02
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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