特許
J-GLOBAL ID：200903009387443773
MEMS素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-275200
公開番号（公開出願番号）：特開2007-083341
出願日： 2005年09月22日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
【課題】 MEMS構造体のリリースを確実に行い、歩留りを高めるとともに、信頼性が高いMEMS素子の製造方法を提供する。【解決手段】 MEMS素子10の製造方法は、リリースエッチングにより犠牲層22を除去して形成されるMEMS構造体11を有するMEMS素子10を形成する工程と、リリースエッチングにより犠牲層22を除去して形成される複数のモニタ指を有するモニタ素子20を形成する工程と、を含み、MEMS素子10を基板ウエハ1の主面の縦横に複数個配列するとともに、モニタ素子20をMEMS素子10の間に分散配設し、モニタ素子20に、第1モニタ指30と第2モニタ指50とを形成し、第1モニタ指30と第2モニタ指50とリリースエッチングの境界面の位置を視認することにより、MEMS構造体11のリリースの状態を確認する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
リリースエッチングにより犠牲層を除去して形成されるMEMS構造体を有するMEMS素子を形成する工程と、
リリースエッチングにより犠牲層を除去して形成される複数のモニタ指を有するモニタ素子を形成する工程と、を含み、
前記MEMS素子を基板ウエハの主面の縦横に複数個配列するとともに、前記モニタ素子を前記MEMS素子の間に分散配設し、
前記複数のモニタ指とリリースエッチングの境界面の位置を視認することにより、前記MEMS構造体のリリース範囲を確認することを特徴とするMEMS素子の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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