特許
J-GLOBAL ID:200903009481724166
レーザ光発生方法及びその装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
逢坂 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-052271
公開番号(公開出願番号):特開平11-251666
出願日: 1998年03月04日
公開日(公表日): 1999年09月17日
要約:
【要約】【課題】 簡易な構成で波長約193nmのレーザ光を発生すること。【解決手段】 Nd:YAGレーザから出射された波長946nmのレーザ光の第4高調波である波長236.5nmのレーザ光(e)と、Nd:YAGレーザ又はNd:YLFレーザから出射された波長1047nm〜1064nmのレーザ光(g)とを和周波混合して波長約193nmのレーザ光を発生する。
請求項(抜粋):
波長236.5nmのレーザ光と、波長1047nm〜1064nmのレーザ光とを非線形光学効果を利用して混合せしめ、波長192.9nm〜193.5nmのレーザ光を発生させる、レーザ光発生方法。
引用特許:
審査官引用 (9件)
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光源装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-315087
出願人:株式会社ニコン
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第4高調波発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-256484
出願人:イビデン株式会社
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レーザ光発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-005425
出願人:ソニー株式会社
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紫外レーザー光源
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-140805
出願人:株式会社ニコン
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加工用レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-194802
出願人:ホーヤ株式会社
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レーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-265963
出願人:ソニー株式会社
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レーザ顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-072503
出願人:ソニー株式会社
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半導体露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-006406
出願人:ソニー株式会社
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特開平4-111484
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