電気光学装置の製造方法及び製造装置、電気光学装置並びに電子機器

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：上柳雅誉 , 藤綱英吉 , 須澤修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-307747
公開番号（公開出願番号）：特開2006-119401
出願日： 2004年10月22日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】高品質な画像表示を行い且つ長寿命化させることが可能な電気光学装置を製造すると共に、歩留まりを向上させる。【解決手段】電気光学物質を挟持することになる一対の基板の少なくとも一方の基板面上に電極を形成する第1工程と、無機材料からなる配向膜の下地膜を、基板面に対して無機材料の飛ぶ方向が成す角度を、該飛ぶ方向に対して電極の陰が一箇所で常時に生じないように一又は複数の値に設定しつつ第1のPVD法を行うことにより、電極より上層側に形成する第2工程と、無機材料からなる配向膜を、第1のPVD法で設定された値とは異なる所定値に前記角度を固定して又は第1のPVD法とは異なる成膜条件で第2のPVD法を行うことにより、下地膜より上層側に形成する第3工程とを備える。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

電気光学物質を挟持してなる一対の基板を備えた電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記一対の基板の少なくとも一方の基板における前記電気光学物質と対向することになる基板面上に、前記電気光学物質に画素毎に所定の電圧を印加するための電極を形成する第1工程と、無機材料からなる配向膜の下地膜を、前記基板面に対して前記無機材料の飛ぶ方向が成す角度を、該飛ぶ方向に対して前記電極の陰が一箇所で常時に生じないように一又は複数の値に設定しつつ第1のPVD法を行うことにより、前記電極より上層側に形成する第2工程と、無機材料からなる前記配向膜を、前記第1のPVD法で設定された値とは異なる所定値に前記角度を固定して又は前記第1のPVD法とは異なる成膜条件で第2のPVD法を行うことにより、前記下地膜より上層側に形成する第3工程とを備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。

IPC (1件)：

G02F 1/133

FI (3件)：

G02F1/1333 505 , G02F1/1337 515 , G02F1/1337 525

Fターム (16件)：

2H090HA03 , 2H090HA11 , 2H090HB03X , 2H090HB03Y , 2H090HB08Y , 2H090HC01 , 2H090HC05 , 2H090HD03 , 2H090HD05 , 2H090HD14 , 2H090JA07 , 2H090JD12 , 2H090JD14 , 2H090LA01 , 2H090MA02 , 2H090MB01

引用特許：

出願人引用 (2件)

配向膜の製造方法、製造装置及び測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-340592 出願人：シャープ株式会社
蒸着装置、蒸着方法、液晶装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-329588 出願人：セイコーエプソン株式会社

審査官引用 (13件)

特開昭61-028928
特開昭53-086235
特開昭52-108843

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