特許
J-GLOBAL ID:200903010090078551

トンネル磁気抵抗効果素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 須田 篤 ,  楠 修二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-052767
公開番号(公開出願番号):特開2008-218641
出願日: 2007年03月02日
公開日(公表日): 2008年09月18日
要約:
【課題】少なくとも一方の強磁性体にスピン分極率がほぼ100%のフルホイスラー合金を具えるトンネル磁気抵抗効果素子を提供する。【解決手段】第1の強磁性体と、第2の強磁性体と、これら強磁性体間に挟まれて存在する絶縁体とを具え、強磁性体の少なくとも一方は、基材上に(100)面にエピタキシャル成長したフルホイスラー合金の単結晶を有し、フルホイスラー合金と絶縁体との間に薄いMg層を具えている。フルホイスラー合金は、X2YZの組成式で表わされる金属間化合物であることが好ましい。特に、フルホイスラー合金は、Co2MnSiからなることが好ましい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1の強磁性体と、第2の強磁性体と、これら強磁性体間に挟まれて存在する絶縁体とを具え、前記強磁性体の少なくとも一方は、基材上に(100)面にエピタキシャル成長したフルホイスラー合金の単結晶を有し、前記フルホイスラー合金と前記絶縁体との間に薄いMg層を具えることを特徴とする、トンネル磁気抵抗効果素子。
IPC (7件):
H01L 43/08 ,  G11B 5/39 ,  G01R 33/09 ,  H01F 10/16 ,  H01F 10/30 ,  H01F 41/32 ,  H01F 41/28
FI (8件):
H01L43/08 M ,  H01L43/08 Z ,  G11B5/39 ,  G01R33/06 R ,  H01F10/16 ,  H01F10/30 ,  H01F41/32 ,  H01F41/28
Fターム (34件):
2G017AD55 ,  2G017AD56 ,  2G017AD62 ,  2G017AD63 ,  5D034BA03 ,  5D034BA05 ,  5D034BA15 ,  5D034DA07 ,  5E049AA04 ,  5E049AC05 ,  5E049BA06 ,  5E049BA12 ,  5E049BA16 ,  5E049CB02 ,  5E049DB14 ,  5E049MC01 ,  5F092AA02 ,  5F092AB01 ,  5F092AB02 ,  5F092AB06 ,  5F092AC12 ,  5F092BB05 ,  5F092BB10 ,  5F092BB17 ,  5F092BB22 ,  5F092BB31 ,  5F092BB35 ,  5F092BB44 ,  5F092BB53 ,  5F092BC03 ,  5F092BC14 ,  5F092BE02 ,  5F092BE21 ,  5F092CA25
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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