特許
J-GLOBAL ID:200903010090078551
トンネル磁気抵抗効果素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
須田 篤
, 楠 修二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-052767
公開番号(公開出願番号):特開2008-218641
出願日: 2007年03月02日
公開日(公表日): 2008年09月18日
要約:
【課題】少なくとも一方の強磁性体にスピン分極率がほぼ100%のフルホイスラー合金を具えるトンネル磁気抵抗効果素子を提供する。【解決手段】第1の強磁性体と、第2の強磁性体と、これら強磁性体間に挟まれて存在する絶縁体とを具え、強磁性体の少なくとも一方は、基材上に(100)面にエピタキシャル成長したフルホイスラー合金の単結晶を有し、フルホイスラー合金と絶縁体との間に薄いMg層を具えている。フルホイスラー合金は、X2YZの組成式で表わされる金属間化合物であることが好ましい。特に、フルホイスラー合金は、Co2MnSiからなることが好ましい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1の強磁性体と、第2の強磁性体と、これら強磁性体間に挟まれて存在する絶縁体とを具え、前記強磁性体の少なくとも一方は、基材上に(100)面にエピタキシャル成長したフルホイスラー合金の単結晶を有し、前記フルホイスラー合金と前記絶縁体との間に薄いMg層を具えることを特徴とする、トンネル磁気抵抗効果素子。
IPC (7件):
H01L 43/08
, G11B 5/39
, G01R 33/09
, H01F 10/16
, H01F 10/30
, H01F 41/32
, H01F 41/28
FI (8件):
H01L43/08 M
, H01L43/08 Z
, G11B5/39
, G01R33/06 R
, H01F10/16
, H01F10/30
, H01F41/32
, H01F41/28
Fターム (34件):
2G017AD55
, 2G017AD56
, 2G017AD62
, 2G017AD63
, 5D034BA03
, 5D034BA05
, 5D034BA15
, 5D034DA07
, 5E049AA04
, 5E049AC05
, 5E049BA06
, 5E049BA12
, 5E049BA16
, 5E049CB02
, 5E049DB14
, 5E049MC01
, 5F092AA02
, 5F092AB01
, 5F092AB02
, 5F092AB06
, 5F092AC12
, 5F092BB05
, 5F092BB10
, 5F092BB17
, 5F092BB22
, 5F092BB31
, 5F092BB35
, 5F092BB44
, 5F092BB53
, 5F092BC03
, 5F092BC14
, 5F092BE02
, 5F092BE21
, 5F092CA25
引用特許:
引用文献: