特許
J-GLOBAL ID：200903011431636058

光学装置およびその製造方法

発明者：
布施 晃広

布施 晃広 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (2件)： 渡邉 昌幸 ,  磯村 雅俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-058858
公開番号（公開出願番号）：特開2006-243343
出願日： 2005年03月03日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】フォトニック結晶の形成に、高価な装置を必要とせず、単純なプロセスで実現できる微粒子の自己組織化現象を利用して形成し、かつ、得られたフォトニック結晶の空隙に媒体を充填あるいは除去することにより屈折率を変化させ、フォトニックバンドギャップの位置を制御するとともに、大パワーのレーザー光であっても光学装置自体の熱損傷を防ぎ、常に安定した特性を発揮させるようにする。【解決手段】周期的な空隙を有する第一の材料102から成る3次元周期構造物において、空隙に第一の材料とは屈折率の異なる第二の材料106から成る物質を充填、および除去することにより空隙の屈折率を変化させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
周期的な空隙を有する第一の材料から成る3次元周期構造物において、 前記空隙に前記第一の材料とは屈折率の異なる第二の材料から成る物質を充填、および除去することにより、前記空隙の屈折率を変化する光学素子と、 該光学素子に対して、前記第二の材料を充填、除去する機構と から構成されて成ることを特徴とする光学装置。
IPC (2件)：
G02B 26/02 ,  G02F 1/01
FI (2件)：
G02B26/02 H ,  G02F1/01 D
Fターム (10件)：
2H041AA04 ,  2H041AC02 ,  2H079AA01 ,  2H079AA13 ,  2H079BA01 ,  2H079CA05 ,  2H079DA03 ,  2H079DA07 ,  2H079EA11 ,  2H079HA04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (8件)
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引用文献：
審査官引用 (3件)

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