特許
J-GLOBAL ID:200903011732866385
高強度、高導電率および曲げ加工性に優れた銅合金およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
梶 良之
, 須原 誠
, 竹中 芳通
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-147088
公開番号(公開出願番号):特開2007-314847
出願日: 2006年05月26日
公開日(公表日): 2007年12月06日
要約:
【課題】高強度化、高導電率化とともに、優れた曲げ加工性を兼備した銅合金を提供することを目的とする。【解決手段】強度と導電率とのバランスからNi、Si、Pを各々特定量含有する銅合金組織の、50〜200nmの特定サイズの析出物の数密度を保証した上で、この範囲のサイズの析出物に含まれるPの平均原子濃度を一定範囲に制御してP含有析出物を存在させ、このP含有析出物による結晶粒成長抑制のピン止め効果によって、平均結晶粒径を10μm 以下に微細化させ、前記銅合金に高強度、高導電率および曲げ加工性を兼備させる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
質量%で、Ni:0.4〜4.0%、Si:0.05〜1.0%、P:0.005〜0.5%を各々含有し、残部銅および不可避的不純物からなる銅合金であって、この銅合金組織の、倍率30000倍の電界放出型透過電子顕微鏡とエネルギー分散型分析装置とにより測定した、50〜200nmのサイズの析出物の数密度が平均で0.2〜7.0個/μm2 であり、この範囲のサイズの析出物に含まれるPの平均原子濃度が0.1〜50at%であるとともに、電界放出型走査電子顕微鏡に後方散乱電子回折像システムを搭載した結晶方位解析法により測定した、結晶粒の数をn、それぞれの測定した結晶粒径をxとした時、(Σx)/nで表される平均結晶粒径が10μm 以下であることを特徴とする高強度、高導電率および曲げ加工性に優れた銅合金。
IPC (7件):
C22C 9/06
, C22C 9/10
, C22C 9/00
, C22C 9/04
, C22C 9/02
, C22F 1/08
, H01B 1/02
FI (7件):
C22C9/06
, C22C9/10
, C22C9/00
, C22C9/04
, C22C9/02
, C22F1/08 B
, H01B1/02 A
Fターム (45件):
5G050AA02
, 5G050AA04
, 5G050AA06
, 5G050AA07
, 5G050AA08
, 5G050AA10
, 5G050AA11
, 5G050AA12
, 5G050AA13
, 5G050AA14
, 5G050AA19
, 5G050AA23
, 5G050AA25
, 5G050AA27
, 5G050AA29
, 5G050AA32
, 5G050AA40
, 5G050AA42
, 5G050AA43
, 5G050AA45
, 5G050AA48
, 5G050AA50
, 5G050AA51
, 5G050AA53
, 5G050AA54
, 5G050BA03
, 5G050BA10
, 5G050CA01
, 5G050DA01
, 5G050DA07
, 5G050DA10
, 5G050EA01
, 5G301AA07
, 5G301AA08
, 5G301AA09
, 5G301AA12
, 5G301AA14
, 5G301AA19
, 5G301AA20
, 5G301AA21
, 5G301AA23
, 5G301AA24
, 5G301AB02
, 5G301AB05
, 5G301AD03
引用特許:
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