特許
J-GLOBAL ID：200903012200981190
ArF露光装置用合成石英ガラス素材
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-024256
公開番号（公開出願番号）：特開2003-221245
出願日： 2002年01月31日
公開日（公表日）： 2003年08月05日
要約：
【要約】【課題】パルスあたりのエネルギー密度が0.001〜0.5mJ/cm2の領域であるArFエキシマレーザー光を透過する光学系、特に半導体ウエハーの露光装置に好適に用いられるレンズ、プリズム、ウインドウ等の光学系を構成する、レーザーの照射に対して複屈折量変化の少ない合成石英ガラス素材を提供する。【解決手段】パルスあたりのエネルギー密度の範囲が0.001〜0.5mJ/cm2のArFエキシマレーザーを透過するArF露光装置の光学系に用いられる合成石英ガラス素材であって、屈折率の均質性Δnが1×10-6以下、複屈折量が1nm/cm以下、及び波長193.4nmの紫外光に対する内部透過率が99.7%以上であり、OH基濃度が5ppm以上300ppm以下、及び水素分子濃度が1×1016分子/cm3以上2×1017分子/cm3未満であるようにした。
請求項（抜粋）：
パルスあたりのエネルギー密度の範囲が0.001〜0.5mJ/cm2のArFエキシマレーザーを透過するArF露光装置の光学系に用いられる合成石英ガラス素材であって、屈折率の均質性Δnが1×10-6以下、複屈折量が1nm/cm以下、及び波長193.4nmの紫外光に対する内部透過率が99.7%以上であり、OH基濃度が5ppm以上300ppm以下、及び水素分子濃度が1×1016分子/cm3以上2×1017分子/cm3未満であることを特徴とするArF露光装置用合成石英ガラス素材。
IPC (4件)：
C03B 20/00
, C03B 8/04
, G02B 1/00
, G02B 3/00
C03B 20/00 F
, C03B 20/00 G
, C03B 8/04 R
, G02B 1/00
, G02B 3/00 Z
