特許
J-GLOBAL ID:200903080833289356
合成石英ガラスとその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-366308
公開番号(公開出願番号):特開2001-180962
出願日: 1999年12月24日
公開日(公表日): 2001年07月03日
要約:
【要約】【課題】波長150〜200nmの紫外線を照射しても透過率が低下しない合成石英ガラスとその製造方法の提供。【解決手段】合成石英ガラス中のOH基濃度が100ppm以下、水素分子濃度が1×1017分子/cm3未満であって、実質的に還元型欠陥を含まず、かつ波長172nmの紫外線を照度10mW/cm2で15kJ/cm2照射した後の150〜200nmにおける吸光係数の変化量が0.2cm-1以下であることを特徴とする。
請求項(抜粋):
波長150〜200nmの紫外線を照射して使用される合成石英ガラスであって、合成石英ガラス中のOH基濃度が100ppm以下、水素分子濃度が1×1017分子/cm3未満であって、実質的に還元型欠陥を含まず、かつ波長172nmの紫外線を照度10mW/cm2で10kJ/cm2照射した後の波長150〜200nmにおける吸光係数の変化量が0.2cm-1以下であることを特徴とする合成石英ガラス。
IPC (3件):
C03C 3/06
, C03B 8/04
, C03B 20/00
FI (3件):
C03C 3/06
, C03B 8/04 M
, C03B 20/00 F
Fターム (8件):
4G014AH11
, 4G014AH21
, 4G062AA04
, 4G062BB02
, 4G062CC07
, 4G062MM02
, 4G062NN01
, 4G062NN16
引用特許:
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