特許

J-GLOBAL ID：200903012778491480

ネガ型光像形成性底層反射防止膜本願は2002年1月9日に出願した米国プロビジョナル出願No.60/347,135号の利益を請求するものである。

発明者： オーバーランダー・ヨーゼフ・イー ,  ダンメル・ラルフ・アール ,  ディン-リー・シュウジ ,  ニィーザー・マーク・オー ,  ターキー・メハット・エイ
出願人/特許権者： クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
代理人 (4件)： 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-558596
公開番号（公開出願番号）：特表2005-514657
出願日： 2003年01月07日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

【解決手段】 本発明は、アルカリ現像剤中で現像できそしてネガ型フォトレジストの下にコーティングされているネガ型光像形成底層反射防止膜用組成物において、該反射防止膜用組成物が光酸発生剤、架橋剤およびアルカリ可溶性ポリマーよりなることを特徴とする、上記組成物に関する。

請求項（抜粋）：

アルカリ現像剤中で現像できそしてネガ型フォトレジストの下にコーティングされているネガ型光像形成底層反射防止膜用組成物において、該反射防止膜用組成物が光酸発生剤、架橋剤およびアルカリ可溶性ポリマーよりなることを特徴とする、上記組成物。

IPC (2件)：

G03F7/11 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/11 503 ,  H01L21/30 574

Fターム (14件)：

2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB52 ,  2H025CC13 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  5F046PA07

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-205480   出願人：東京応化工業株式会社
• 下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-186575   出願人：株式会社東芝
• 光酸発生剤をしてなる反射防止コーティング組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-061845   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
• パタン形成方法及びそれに用いるフォトレジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-089029   出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
• 反射防止コーティング組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-188850   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
• 深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-582851   出願人：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
• 多層フォトレジスト系
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-389094   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.