特許

J-GLOBAL ID：200903012871132694

フッ素アルコール化合物の製造方法、含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 長谷川 幸士 ,  金生 剛 ,  西 恒寛 ,  大橋 正樹 ,  渡辺 武
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-022319
公開番号（公開出願番号）：特開2007-204385
出願日： 2006年01月31日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

【解決手段】式(1)で示されるフッ素化合物に式(2)及び(3)で示される還元剤又は有機金属試薬を反応させる式(4)で示されるフッ素アルコール化合物の製造方法。(式中、R1はH、又はC1〜20の1価炭化水素基で、1価炭化水素基の場合、構成する-CH2-が-O-又は-C(=O)-に置換されていてもよい。R2はH、又はC1〜6の1価炭化水素基。R3、R4はH、又はC1〜8の1価炭化水素基。M1は置換されていてもよいLi、Na、K、Mg、Zn、Al、B、Si。)【効果】本発明の含フッ素単量体は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として、中でも感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。本発明の方法によれば、単量体を極めて容易にかつ安価に製造可能である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるフッ素化合物に下記一般式(2)及び(3)で示される還元剤又は有機金属試薬を反応させることを特徴とする下記一般式(4)で示されるフッ素アルコール化合物の製造方法。

IPC (10件)：

C07C 29/40 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 31/42 ,  C07C 69/653 ,  C07C 69/753 ,  C07C 31/44 ,  C08F 20/24 ,  C08F 32/08 ,  C08F 20/28

FI (10件)：

C07C29/40 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C31/42 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 Z ,  C07C31/44 ,  C08F20/24 ,  C08F32/08 ,  C08F20/28

Fターム (65件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB84 ,  4H006AC22 ,  4H006AC28 ,  4H006AC41 ,  4H006BB11 ,  4H006BB25 ,  4H006BB31 ,  4H006BJ30 ,  4H006FC22 ,  4H006FE11 ,  4H006FE12 ,  4H006FE71 ,  4H006FE74 ,  4H006FG29 ,  4H006KC14 ,  4H006KC30 ,  4H006KE00 ,  4J100AJ02S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AR11P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BB12S ,  4J100BB18P ,  4J100BB18S ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ハイドレート構造を有するフッ素含有感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-368107   出願人：三星電子株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-108824   出願人：ジェイエスアール株式会社, インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
• 含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-222530   出願人：セントラル硝子株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社

審査官引用 (5件)

• フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-128938   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
• 含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-222530   出願人：セントラル硝子株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社
• 脂環構造を有する新規第三級アルコール化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-378693   出願人：信越化学工業株式会社
• 含フッ素2,4-ジオール類およびその誘導体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-018862   出願人：セントラル硝子株式会社
• 含フッ素重合性エステル化合物、その製造方法、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-203195   出願人：信越化学工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• SYNTHETIC COMMUNICATIONS, Vol.12, No. 6, p.463-7