特許
J-GLOBAL ID:200903013050133966
感放射線性組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
永井 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-110680
公開番号(公開出願番号):特開2009-173623
出願日: 2008年04月21日
公開日(公表日): 2009年08月06日
要約:
【課題】 高感度、高解像度、高エッチング耐性、低アウトガス量、及び得られるレジストパターン形状が良好な環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該感放射性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】 下記式(1)で示される、特定条件を満たす環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該感放射性組成物を用いるレジストパターン形成方法。【化1】(1)【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で示される環状化合物。
IPC (8件):
C07C 39/17
, G03F 7/039
, G03F 7/004
, G03F 7/038
, G03F 7/11
, H01L 21/027
, C07C 39/42
, C07C 215/70
FI (8件):
C07C39/17
, G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, G03F7/038 601
, G03F7/11 503
, H01L21/30 502R
, C07C39/42
, C07C215/70
Fターム (25件):
2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF29
, 2H025BG00
, 2H025CB29
, 2H025CC17
, 2H025CC20
, 2H025DA34
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB76
, 4H006BJ30
, 4H006BJ50
, 4H006BN30
引用特許:
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (9件)
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引用文献:
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