特許
J-GLOBAL ID：200903013470313609
ムラ検査装置、膜形成システムおよびムラ検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-250287
公開番号（公開出願番号）：特開2008-070279
出願日： 2006年09月15日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：
【課題】膜厚ムラの欠陥が検出された際に、膜形成工程と膜厚ムラとの因果関係の判断を容易かつ適切に行う。【解決手段】ムラ検査装置の検査部200では、基板から得られる対象画像において筋ムラ、部分ムラおよび点ムラが検出され、評価点取得部211により求められた基板上の膜の膜厚ムラに係る評価点に基づいて、膜検査部213により膜の検査が行われる。続いて、平均評価点取得部214により当該基板以前の所定数の基板上の膜に係る平均評価点が求められ、工程検査部215により当該平均評価点に対する当該基板上の膜の評価点の割合を示す乖離度が求められる。そして、工程検査部215により、基板の評価点および乖離度に基づいて膜形成工程の検査が行われる。これにより、一の基板において膜厚ムラに係る欠陥が検出された際に、膜形成工程と膜厚ムラとの因果関係の判断を容易かつ適切に行うことができる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板上に形成された膜の膜厚ムラを検査するムラ検査装置であって、
主面上に光透過性の膜が形成されている基板を保持する保持部と、
前記膜に向けて光を出射する光出射部と、
前記膜にて反射された、または、前記膜を透過した後の特定の波長帯の光を受光して前記主面からの前記特定の波長帯の光の強度分布を出力するセンサと、
前記センサからの出力に基づいて検出した前記膜の膜厚ムラの大きさ、濃度範囲および種類の少なくともいずれかに基づいて前記膜の評価点を求める評価点取得部と、
前記評価点に基づいて前記膜の検査を行う膜検査部と、
複数の基板上の膜に対して前記評価点取得部により順次求められた複数の評価点を順次記憶する評価点記憶部と、
少なくとも前記膜検査部にて膜厚ムラに係る欠陥が存在すると判定された際に、前記欠陥が存在する基板以前に連続して求められた所定数の基板上の膜の評価点の平均である平均評価点を求める平均評価点取得部と、
を備えることを特徴とするムラ検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956
, G01B 11/06
, H01L 21/027
G01N21/956 Z
, G01B11/06 Z
, H01L21/30 564Z
2F065AA30
, 2F065AA49
, 2F065BB24
, 2F065CC31
, 2F065FF44
, 2F065HH00
, 2F065JJ00
, 2F065PP11
, 2F065TT03
, 2G051AA51
, 2G051AA65
, 2G051AB20
, 2G051CA03
, 2G051CB02
, 2G051CC07
, 2G051EC03
, 2G051FA01
, 5F046JA21
