特許
J-GLOBAL ID：200903074494529881

ムラ検査装置、ムラ検査方法、および、濃淡ムラをコンピュータに検査させるプログラム

発明者：
谷口 和隆

谷口 和隆 について

, 
上田 邦夫

上田 邦夫 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-295672
公開番号（公開出願番号）：特開2006-105884
出願日： 2004年10月08日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】対象物の濃淡ムラを検査するムラ検査において、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上する。【解決手段】基板9に塗布されたレジストの濃淡ムラを検査するムラ検査装置1では、基板9の撮像画像が圧縮された後にローパスフィルタ処理が行われ、さらにハイパスフィルタ部4214によりハイパスフィルタ処理が行われる。ハイパスフィルタ部4214では、ハイパスウィンドウがエッジ近傍に存在する場合には、ハイパスウィンドウが縮小されてフィルタ処理による画素値算出の対象となる注目画素が属する領域以外の領域を避ける。このように、ムラ検査装置1では、ハイパスフィルタ処理に利用される画素群を、ハイパスウィンドウ内の画素、すなわち、実質的に注目画素が属する領域内の画素に制限することにより、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
対象物の濃淡ムラを検査するムラ検査装置であって、 対象物を保持する保持部と、 前記対象物の一の主面を撮像する撮像部と、 前記撮像部にて取得された対象画像に画像処理を行って処理済画像を生成する画像処理部と、 を備え、 前記画像処理部が、 前記対象画像において互いに異なる濃度の領域の境界であるエッジを検出するエッジ検出部と、 前記対象画像にハイパスフィルタ処理を行うハイパスフィルタ部と、 前記ハイパスフィルタ部により処理された後の前記対象画像のコントラストを強調するコントラスト強調部と、 を備え、 前記ハイパスフィルタ部が、前記処理済画像中の一の注目画素の画素値を求める際に、前記対象画像中において演算に利用される画素群を実質的に前記注目画素が属する領域の画素に制限することを特徴とするムラ検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/958 ,  G01B 11/30 ,  G09F 9/00
FI (3件)：
G01N21/958 ,  G01B11/30 A ,  G09F9/00 338
Fターム (33件)：
2F065AA00 ,  2F065AA12 ,  2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC00 ,  2F065CC01 ,  2F065DD04 ,  2F065FF04 ,  2F065GG15 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ25 ,  2F065MM07 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ34 ,  2F065QQ42 ,  2G051AA90 ,  2G051AB20 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051DA05 ,  2G051EA14 ,  2G051EA23 ,  2G051EB01 ,  2G051EC05 ,  2G051ED05 ,  2G051ED22 ,  5G435AA17 ,  5G435CC09 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (9件)
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