特許

J-GLOBAL ID：200903013514906122

耐蝕性部材及びその製造方法

発明者： 阿部 昌則 ,  高橋 小弥太 ,  新井 一喜 ,  高畑 努 ,  橋本 眞吉 ,  向後 雅則
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-018145
公開番号（公開出願番号）：特開2004-253793
出願日： 2004年01月27日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】 CVD装置、プラズマ処理装置等に用いる部材は腐食性ガスとの反応、或いはプラズマによるエッチングにより消耗し、パーティクル発生による製品の汚染、歩留まり生産性低下の問題があった。また腐食性ガス、プラズマに耐性のあるガラスは耐熱強度が弱く、用いられる用途が限られていた。【解決手段】 耐熱性の高い基材上に、2a族及び3a族及び4a族の元素からなる群より選ばれる少なくともひとつの元素を含む耐蝕性ガラス、特にアルミノシリケート又はジルコニアシリケート系のガラス溶射膜を被覆した部材では、腐食性ガス及びプラズマに対する耐蝕性と耐熱強度が高く、パーティクルの発生が少ない。【選択図】 選択図なし

請求項（抜粋）：

元素周期律表2a族及び3a族及び4a族の元素からなる群より選ばれる少なくとも1つの元素を含み、アルミノシリケートガラス又はジルコニアシリケートガラスである耐蝕性ガラス溶射膜を被覆した基材からなる耐蝕性部材。

IPC (5件)：

H01L21/3065 ,  C03C8/00 ,  C03C17/02 ,  C04B41/87 ,  C23C4/10

FI (5件)：

H01L21/302 101H ,  C03C8/00 ,  C03C17/02 Z ,  C04B41/87 J ,  C23C4/10

Fターム (106件)：

4G059CA01 ,  4G059CB08 ,  4G062AA08 ,  4G062AA09 ,  4G062AA10 ,  4G062BB01 ,  4G062BB06 ,  4G062CC08 ,  4G062DA06 ,  4G062DA07 ,  4G062DB03 ,  4G062DB04 ,  4G062DB05 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062ED02 ,  4G062ED03 ,  4G062ED04 ,  4G062EE01 ,  4G062EE02 ,  4G062EE03 ,  4G062EE04 ,  4G062EF01 ,  4G062EF02 ,  4G062EF03 ,  4G062EF04 ,  4G062EG01 ,  4G062EG02 ,  4G062EG03 ,  4G062EG04 ,  4G062FA01 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FJ02 ,  4G062FJ03 ,  4G062FJ04 ,  4G062FK01 ,  4G062FK02 ,  4G062FK03 ,  4G062FK04 ,  4G062FL01 ,  4G062FL02 ,  4G062FL03 ,  4G062FL04 ,  4G062GA01 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH18 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK02 ,  4G062KK03 ,  4G062KK04 ,  4G062KK05 ,  4G062KK06 ,  4G062KK07 ,  4G062KK08 ,  4G062KK10 ,  4G062MM05 ,  4G062MM06 ,  4G062MM07 ,  4G062NN34 ,  4K030KA09 ,  4K030KA46 ,  4K030KA47 ,  4K031AA04 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031CB41 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031CB47 ,  4K031CB48 ,  4K031DA04 ,  5F004AA15 ,  5F004BB30 ,  5F045AA03 ,  5F045EB03

引用特許：

出願人引用 (9件)

• 熱処理装置及びその洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-173542   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 成膜装置およびそのクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-050953   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマCVD処理装置のドライクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-028574   出願人：富士電機株式会社
• 耐プラズマ部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-086300   出願人：京セラ株式会社
• プラズマ耐食性ガラス部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-314167   出願人：信越石英株式会社
• プラズマ耐食性に優れた石英ガラス及び石英ガラス治具並びにそれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-390823   出願人：信越石英株式会社
• 特開昭64-13324号公報
  
• 特開平4-99259号公報
  
• 金属ロールのガラス溶射方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-303744   出願人：株式会社ナカシマ

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-069441
  
• 石英ガラス及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-008084   出願人：信越石英株式会社
• 真空処理装置用部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-326148   出願人：太平洋セメント株式会社